专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101794093B1 기판처리장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101794093B1
公开(公告)日：2017-11-06
申请号：KR1020110088488
申请日：2011-09-01
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최효조
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/027
摘要： 본발명의실시예는기판상에약액을공급하여기판을처리하는장치를제공한다. 기판처리장치는제1방향을따라이동가능하며, 그길이방향이제2방향으로배치되고, 기판상으로약액을공급하는슬릿노즐, 그리고제2방향을따라슬릿노즐의평탄도를측정하는감지유닛을포함하되, 감지유닛은그 길이방향이제2방향을따라배치되는이송레일및 이송레일에결합되고, 이송레일의길이방향을따라직선이동가능한센서를포함한다. 이로인해토출구가형성된슬릿노즐의일면전체에대한평탄도를측정할수 있다.

2. 发明公开

KR1020160006355A 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：预备单元，用于用单元处理基板的装置和方法
公开(公告)号：KR1020160006355A
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020140085459
申请日：2014-07-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이명기 , 최효조
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/677 , H01L21/02
CPC分类号： B05B15/52 , G03F7/16 , H01L21/67046
摘要： 본발명은기판을처리하는장치및 방법을제공한다. 예비토출유닛은내부에세정액이수용되는수용공간을가지는하우징, 일부가세정액에침지되도록상기수용공간에위치되는롤러, 상기롤러를그 중심축을기준으로회전시키는구동기, 그리고상기롤러에잔류된액을제거하도록가스를분사하는가스분사부재를가지는액 제거유닛을포함하되, 상기가스분사부재는제1토출구가형성되며, 상기제1토출구를통해상기롤러에가스를분사하는제1노즐및 상기제1토출구와상이한방향을향하는제2토출구가형성되며, 상기제2토출구를통해상기롤러에가스를분사하는제2노즐을포함한다. 롤러에잔류된액은가스분사부재로부터분사되는가스에의해제거된다. 이로인해롤러가마모되는것을방지할수 있다.
摘要翻译：本发明提供了一种用于处理基板的装置和方法。初步排放单元包括：具有用于容纳清洁液的容纳空间的壳体; 定位在容纳空间中以使其一部分浸入清洁液中的辊; 驱动器，其使辊相对于其中心轴线旋转; 以及具有喷射气体以除去残留在辊上的液体的气体注入构件的液体移除单元。气体注入构件包括具有第一排出口的第一喷嘴，并且通过第一排出口将气体喷射到辊;以及第二喷嘴，其具有朝向与第一排出口不同的方向的第二排出口，并将气体喷射到辊通过第二个排放口。通过从气体注入构件注入的气体除去保留在辊上的液体。因此，可以防止辊磨损。

3. 发明授权

KR102134437B1 기판처리방법 및 장치 有权
公开(公告)号：KR102134437B1
公开(公告)日：2020-07-15
申请号：KR1020130104060
申请日：2013-08-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 강성근 , 최효조
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/02 , H01L21/67

4. 发明授权

KR102109947B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102109947B1
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：KR1020130003437
申请日：2013-01-11
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 양진혁 , 최효조
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683

5. 发明公开

KR1020150025899A 기판처리방법 审中-实审
标题翻译：处理基板的方法
公开(公告)号：KR1020150025899A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：KR1020130104060
申请日：2013-08-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 강성근 , 최효조
IPC分类号： G09F9/00
CPC分类号： G03F7/0002 , H01L21/02307 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： 본 발명의 실시예는 기판 상에 약액을 도포하는 방법 및 장치를 제공한다. 기판에 약액을 도포하는 방법은 노즐 내부에 제공된 버퍼공간에 잔존하는 기포를 제거하는 기포 제거 단계, 상기 버퍼공간에 압력을 조절하도록 약액을 토출하는 예비 토출 단계, 그리고 상기 노즐이 기판의 상부에서 일방향을 따라 이동하며 약액을 도포하는 도포 단계를 포함하되, 상기 기포 제거 단계 및 예비 토출 단계는 동시에 수행하므로, 기포제거공정에서 소모되는 약액을 줄일 수 있다.
摘要翻译：本发明的一个实施方案提供了一种在基材上施加化学溶液的方法和装置。将化学溶液施加在基材上的方法包括以下步骤：除去留在喷嘴中的缓冲空间中残留的气泡; 预先排出化学溶液以调节缓冲空间的压力; 并且当喷嘴沿着衬底上方的一个方向移动时施加化学溶液。由于除去气泡的步骤和预先排出的步骤同时进行，因此可以减少除去气泡的步骤中的化学溶液的消耗。

6. 发明公开

KR1020160033885A 기판 처리 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于处理基板的装置和方法
公开(公告)号：KR1020160033885A
公开(公告)日：2016-03-29
申请号：KR1020140124608
申请日：2014-09-18
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최효조 , 박배완
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： B05B1/005 , B05B15/50 , H01L21/02
摘要： 본발명은기판을액 처리하는장치및 방법을제공한다. 기판처리장치는기판을지지하는기판지지유닛및 상기기판지지유닛에지지된기판상에처리액을공급하는액 공급유닛을포함하되, 상기액 공급유닛은노즐, 상기노즐에처리액을공급하는처리액공급라인을가지는처리액공급부재, 상기노즐의내부분위기를배기하는배기라인을가지는배기부재, 그리고상기처리액공급라인및 상기배기라인각각에세정액을공급하는세정액공급부재를포함하되, 상기세정액공급부재는내부에세정액이제공되는세정액공급원및 상기세정액공급원을상기처리액공급라인및 상기배기라인각각에연결하는세정액공급라인을포함한다. 이로인해처리액공급라인을세정처리하는동시에배기라인에잔류된처리액을세정처리할수 있다.
摘要翻译：公开了一种通过液体处理基板的装置和方法。基板处理装置包括：支撑基板的支撑单元; 以及向由所述支撑单元支撑的所述基板提供处理液的液体供给单元。液体供给单元包括喷嘴; 处理液体提供构件，具有处理液体供应管线以将处理液体提供给喷嘴; 气体排出构件，其具有用于排出所述喷嘴的内部气氛的排气管线; 以及向处理液体供给管线和排气管线提供清洁液体的清洁液体供给部件。清洁液体提供构件包括：清洁提供源，用于向内部提供清洁液体; 以及净化液体供给管线，其配置为将清洁供给源连接到处理液体供给管线和排气管线。结果，可以同时进行处理液供给管线的清洗处理和排气管路中的残留处理液。

7. 发明授权

KR101522895B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
标题翻译：基板处理装置及基板处理方法
公开(公告)号：KR101522895B1
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：KR1020130119188
申请日：2013-10-07
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 강성근 , 최효조
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것으로서, 보다상세하게는기판을스테이지에서부상시켜기판을지지한상태로기판에약액을토출하는기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 상면에복수개의홀을가지는스테이지를포함하고, 상기기판을상기스테이지상부로부상시키는기판부상유닛, 상기스테이지의상부에위치하고, 상기기판으로약액을토출하는노즐유닛, 상기기판을파지하고, 상기기판을제1 방향을따라이동시키는파지부재를포함하는기판이동유닛및 상기스테이지상부의이물로부터상기기판을보호하는기판보호유닛을포함하되, 상기기판보호유닛은상기파지부재의상기제1 방향의전단에위치하고, 상기스테이지상에위치하는이물을감지하는센서부재및 상기센서부재와전기적으로연결되어, 상기기판이동유닛의이동을제어하는제어기를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置，更具体地涉及用于喷射液体药剂，以在状态部在舞台上jijihan基底基板的基板上的装置。根据本发明的一个实施例，其包括具有多个所述顶部表面上的孔的一个阶段中的基板处理装置，基板部分单元，其损伤衬底到阶段顶部，位于该阶段的顶部，所述化学液体到衬底以及抓持部件，用于抓持基板并沿第一方向移动基板，以及基板保护单元，用于保护基板免受台架上部上的水的影响，保护单元是用于控制bujaeui所述第一位于第一方向，一个传感器部件，用于感测设置在舞台和所述传感器元件的水的前端的把持的运动的控制器，并电连接到所述基板传送单元的。

8. 发明公开

KR1020140091315A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
标题翻译：装置和方法处理基板
公开(公告)号：KR1020140091315A
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：KR1020130003437
申请日：2013-01-11
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 양진혁 , 최효조
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/0274 , H01L21/6831 , H01L21/6838
摘要： The present invention relates to a substrate treating apparatus. More particularly, the present invention relates to a substrate treating apparatus which injects a chemical solution to a substrate when the substrate is levitated on a stage and is supported. A substrate treating apparatus according to the embodiment of the present invention includes a stage which has an upper surface where holes are formed, a substrate levitation unit which levitates the substrate on the stage, a nozzle unit which is located on the upper part of the stage and injects the chemical solution to the substrate, a substrate moving unit which holds the substrate and moves the substrate along a first direction, and an impurity removing unit which removes the impurity of the stage. The substrate moving unit is located at both ends of the stage and includes a holding member which holds the substrate. The impurity removing unit is located in front of the holding member in the moving direction of the holding member. The impurity removing unit and the holding member connected to the impurity removing unit move together.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置。更具体地说，本发明涉及一种当基板在台架上悬浮并被支撑时将化学溶液注入基板的基板处理装置。根据本发明的实施例的基板处理装置包括：具有形成有孔的上表面的台，使载置在台上的基板的基板悬浮单元，位于台的上部的喷嘴单元并将该化学溶液注入基板，将基板保持并使基板沿第一方向移动的基板移动单元，除去载物台杂质的杂质除去单元。基板移动单元位于载物台的两端，并且包括保持基板的保持构件。杂质去除单元位于保持构件的前方，在保持构件的移动方向上。杂质去除单元和连接到杂质去除单元的保持构件一起移动。

9. 发明授权

KR102250362B1 예비 토출 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR102250362B1
公开(公告)日：2021-05-12
申请号：KR1020140085459
申请日：2014-07-08
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이명기 , 최효조
IPC分类号： B05B15/02 , G03F7/16 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판을처리하는장치및 방법을제공한다. 예비토출유닛은내부에세정액이수용되는수용공간을가지는하우징, 일부가세정액에침지되도록상기수용공간에위치되는롤러, 상기롤러를그 중심축을기준으로회전시키는구동기, 그리고상기롤러에잔류된액을제거하도록가스를분사하는가스분사부재를가지는액 제거유닛을포함하되, 상기가스분사부재는제1토출구가형성되며, 상기제1토출구를통해상기롤러에가스를분사하는제1노즐및 상기제1토출구와상이한방향을향하는제2토출구가형성되며, 상기제2토출구를통해상기롤러에가스를분사하는제2노즐을포함한다. 롤러에잔류된액은가스분사부재로부터분사되는가스에의해제거된다. 이로인해롤러가마모되는것을방지할수 있다.

10. 发明公开

KR1020140145924A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
标题翻译：装置和方法处理基板
公开(公告)号：KR1020140145924A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：KR1020130119188
申请日：2013-10-07
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최태오 , 강성근 , 최효조
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06
CPC分类号： H01L21/6708 , B65G47/911 , B65G49/065 , B65G51/03 , B65G2249/045 , H01L21/67784
摘要： 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 스테이지에서 부상시켜 기판을 지지한 상태로 기판에 약액을 토출하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 상면에 복수개의 홀을 가지는 스테이지를 포함하고, 상기 기판을 상기 스테이지 상부로 부상시키는 기판 부상 유닛, 상기 스테이지의 상부에 위치하고, 상기 기판으로 약액을 토출하는 노즐 유닛, 상기 기판을 파지하고, 상기 기판을 제1 방향을 따라 이동시키는 파지 부재를 포함하는 기판 이동 유닛 및 상기 스테이지 상부의 이물로부터 상기 기판을 보호하는 기판 보호 유닛을 포함하되, 상기 기판 보호 유닛은 상기 파지 부재의 상기 제1 방향의 전단에 위치하고, 상기 스테이지 상에 위치하는 이물을 감지하는 센서 부재 및 상기 센서 부재와 전기적으로 연결되어, 상기 기판 이동 유닛의 이동을 제어하는 제어기를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置，更具体地说，涉及一种在支撑基板的状态下将基板漂浮在台上并将化学液体排出到基板的基板处理装置。根据本发明的实施例的基板处理装置包括：基板浮动单元，其包括在顶部具有多个孔并使基板浮在载物台的上部的载物台; 位于所述台的上部并将所述化学液体排出到所述基板的喷嘴单元; 基板移动单元，其包括夹持所述基板并沿所述第一方向移动所述基板的夹持构件; 以及基板保护单元，保护基板免受位于台架上部的异常材料的影响，其中，基板保护单元包括传感器构件，该传感器构件位于夹持构件的第一方向上的前端，并感测位于舞台; 以及控制器，其电连接到所述传感器构件并且控制所述衬底移动单元的移动。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式