一种研磨材料专利检索-研磨机械加工加工专利检索查询-专利查询网

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一种研磨材料

阅读：363发布：2020-05-13

IPRDB可以提供一种研磨材料专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及一种研磨材料，包括氧化锆颗粒和铈盐；按重量计，氧化锆颗粒和铈盐的组合比例为7-5：3-5；氧化锆颗粒具有1～10m2/g 的比表面积，氧化锆颗粒具有0.2μm以下的平均一次粒径；在每1mL含有1%质量的氧化锆颗粒的水分散液中，氧化锆颗粒之中具有4μm以上的二次粒径的颗粒的个数为20000000个以下。本发明的研磨材料更加适合用于蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的研磨中。，下面是一种研磨材料专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种研磨材料，包括氧化锆颗粒和铈盐；其特征在于，按重量计，所述氧化锆颗粒和2

所述铈盐的组合比例为7-5：3-5；所述氧化锆颗粒具有1 ～ 10m/g 的比表面积，所述氧化锆颗粒具有0.2μm 以下的平均一次粒径；在每1mL 含有1 % 质量的氧化锆颗粒的水分散液中，所述氧化锆颗粒之中具有4μm 以上的二次粒径的颗粒的个数为20000000 个以下。

2.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述研磨材料还包括锆盐。

3.根据权利要求2所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7-5：2-4：1。

4.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为7：3。

5.根据权利要求3所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7：2：1。

6.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为6：4。

7.根据权利要求3所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为6：3：1。

说明书全文

一种研磨材料

技术领域

[0001] 本发明涉及金属研磨技术领域，更具体地说，涉及一种研磨材料。

背景技术

[0002] 在研磨蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的过程中，一般会使用到研磨材料和研磨用组合物。对于在研磨硬盘用玻璃基板、液晶显示面板的玻璃基板、光掩模用合成石英基板等基板的用途中使用的研磨用组合物，为了提高研磨后的基板的品质，强烈要求研磨后的基板的表面粗糙度小以及研磨后的基板上如划痕那样的表面缺陷少。另外，为了缩短研磨操作所耗费的时间，还要求基板的研磨速度（去除速度）高。

发明内容

[0003] 本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种研磨材料。

[0004] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种研磨材料，包括氧化锆颗粒和铈盐；其中，按重量计，所述氧化锆颗粒和所述
2
铈盐的组合比例为7-5：3-5；所述氧化锆颗粒具有1 ～ 10m/g 的比表面积，所述氧化锆颗粒具有0.2μm 以下的平均一次粒径；在每1mL 含有1 % 质量的氧化锆颗粒的水分散液中，所述氧化锆颗粒之中具有4μm 以上的二次粒径的颗粒的个数为20000000 个以下。

[0005] 本发明所述的研磨材料，其中，所述研磨材料还包括锆盐。

[0006] 本发明所述的研磨材料，其中，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7-5：2-4：1。

[0007] 本发明所述的研磨材料，其中，所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为7：3。

[0008] 本发明所述的研磨材料，其中，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为7：2：1。

[0009] 本发明所述的研磨材料，其中，所述氧化锆颗粒和所述铈盐的组合比例为6：4。

[0010] 本发明所述的研磨材料，其中，所述氧化锆颗粒、所述铈盐和所述锆盐的组合比例为6：3：1。

[0011] 本发明的有益效果在于：本发明的研磨材料更加适合用于蓝宝石、氮化硅、碳化硅、氧化硅、玻璃、氮化镓、砷化镓、砷化铟、磷化铟等硬脆材料的研磨中。

具体实施方式

[0012] 为了使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本发明的部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明的保护范围。

[0013] 本发明较佳实施例的研磨材料，包括氧化锆颗粒和铈盐；其中，按重量计，氧化锆

标题	发布/更新时间	阅读量
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