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一种钕玻璃包边面形测量装置

阅读:835发布:2021-02-25

IPRDB可以提供一种钕玻璃包边面形测量装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本发明公开了一种钕玻璃包边面形测量装置,包括安装架,在安装架上设置有钕玻璃包边放置平台,在钕玻璃包边放置平台上方的安装架上设置有左右走向的导轨,在导轨上滑动设置有能在导轨上左右移动的干涉仪,在干涉仪的二维调整架上设置有标准块,在标准块左右两侧的安装架上分别相对设置有测角激光器及测角相机,所述测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收。本发明的优点是:能对标准块的相对偏转角进行测量,标准块相对偏转角可用于辅助修正干涉仪的测量值,大大提高了对钕玻璃包边的面形检测精度。,下面是一种钕玻璃包边面形测量装置专利的具体信息内容。

1.一种钕玻璃包边面形测量装置,其特征在于:包括安装架,在安装架上设置有钕玻璃包边放置平台,在钕玻璃包边放置平台上方的安装架上设置有左右走向的导轨,在导轨上滑动设置有能在导轨上左右移动的干涉仪,在干涉仪的二维调整架上设置有标准块,在标准块左右两侧的安装架上分别相对设置有测角激光器及测角相机,所述测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收,所述标准块的结构为:标准块呈长方体,标准块的宽度与钕玻璃包边宽度相匹配,标准块的长度为其宽度的1.5~2倍,标准块的高度为其长度的1/6倍,标准块上表面的面形精度PV≤λ/2,标准块下表面的面形精度PV≤λ/10,标准块左表面的面形精度PV≤λ/2,标准块右表面的面形精度PV≤λ/2,标准块的上表面与下表面之间形成的楔角为3~5’,并且标准块的左表面与右表面之间形成的楔角能确保测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收。

2.根据权利要求1所述的一种钕玻璃包边面形测量装置,其特征在于:在安装架上由左到右依次设置有若干卡位点,相邻卡位点之间的距离正好与标准块长度相匹配。

说明书全文

一种钕玻璃包边面形测量装置

技术领域

[0001] 本发明涉及光学精密测量技术领域,具体涉及一种钕玻璃包边面形测量装置。

背景技术

[0002] 钕玻璃是大型高功率固定激光装置放大器的主要激光放大介质,钕玻离作为放大工作介质时,钕玻璃需要包边来抑制激光信号增益时的自发辐射。为保证钕玻璃包边能与钕玻璃稳定胶合,因此在钕玻璃胶合包边之间必须对钕玻璃包边的面形精度(面形精度简称PV)进行测量,干涉仪是常用的精密测量设备。目前所使用的钕玻璃包边面形测量装置存在面形检测精度低的缺点。

发明内容

[0003] 本发明的目的是提供一种面形检测精度高的钕玻璃包边面形测量装置。
[0004] 为实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:所述的一种钕玻璃包边面形测量装置,包括安装架,在安装架上设置有钕玻璃包边放置平台,在钕玻璃包边放置平台上方的安装架上设置有左右走向的导轨,在导轨上滑动设置有能在导轨上左右移动的干涉仪,在干涉仪的二维调整架上设置有标准块,在标准块左右两侧的安装架上分别相对设置有测角激光器及测角相机,所述测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收。
[0005] 进一步地,前述的一种钕玻璃包边面形测量装置,其中:所述标准块的结构为:标准块呈长方体,标准块的宽度与钕玻璃包边宽度相匹配,标准块的长度为其宽度的1.5~2倍,标准块的高度为其长度的1/6倍,标准块上表面的面形精度PV≤λ/2,标准块下表面的面形精度PV≤λ/10,标准块左表面的面形精度PV≤λ/2,标准块右表面的面形精度PV≤λ/2,标准块的上表面与下表面之间形成的楔角为3~5′,并且标准块的左表面与右表面之间形成的楔角能确保测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收。
[0006] 进一步地,前述的一种钕玻璃包边面形测量装置,其中:在安装架上由左到右依次设置有若干卡位点,相邻卡位点之间的距离正好与标准块长度相匹配。
[0007] 通过上述技术方案的实施,本发明的优点是:能对标准块的相对偏转角进行测量,标准块相对偏转角可用于辅助修正干涉仪的测量值,大大提高了对钕玻璃包边的面形检测精度。

附图说明

[0008] 图1为本发明所述的一种钕玻璃包边面形测量装置的结构示意图。

具体实施方式

[0009] 下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明。
[0010] 如图1所示,所述的一种钕玻璃包边面形测量装置,包括安装架1,在安装架1上设置有用以放置钕玻璃包边9的钕玻璃包边放置平台2,在钕玻璃包边放置平台2上方的安装架1上设置有左右走向的导轨3,在导轨3上滑动设置有能在导轨3上左右移动的干涉仪4,在干涉仪4的二维调整架5上设置有标准块6,在标准块6左侧的安装架1上设置有分别设置有测角相机7,在标准块6右侧的安装架1上设置有与测角相机7相对的测角激光器8,所述测角激光器8射出的激光光束经过标准块6左右两表面后能被测角相机7所接收,在本实施例中,所述标准块6的结构为:标准块6呈长方体,标准块6的宽度与钕玻璃包边宽度相匹配,标准块6的长度为其宽度的1.5~2倍,标准块6的高度为其长度的1/6倍,标准块6上表面的面形精度PV≤λ/2,标准块6下表面的面形精度PV≤λ/10,标准块6左表面的面形精度PV≤λ/2,标准块6右表面的面形精度PV≤λ/2,标准块6的上表面与下表面之间形成的楔角为3~5′,使两面在被干涉过程中不会产生自身条纹,并且标准块6的左表面与右表面之间形成的楔角能确保测角激光器射出的激光光束经过标准块左右两表面后能被测角相机所接收,上述标准块6能进一步提高钕玻璃包边面形的检测精度;在本实施例中,在安装架1上由左到右依次设置有若干卡位点10,相邻卡位点10之间的距离正好与标准块6长度相匹配,这样可以使干涉仪每次定位移动,保证无缝测试钕玻璃包边各段区域;
[0011] 本发明的工作原理如下:
[0012] 先将干涉仪4移至最左边初始位置,接着调整测角相机7及对应的测角激光器8的位置,使测角激光器8射出的激光光束射到测角相机7的中心位置,然后将标准块6安装在干涉仪4的二维调整架5上,将此时测角激光器8射出的激光光束经过标准块6左右两表面后射入到测角相机7上的光点设为基准点,记录储存该基准点位置;
[0013] 接着将待测钕玻璃包边9放到干涉仪4下方的钕玻璃包边放置平台2上,此时,标准块6正好位于待测钕玻璃包边9左端第一待测区域的正上方,然后调整二维调整架5,直至标准块6的下表面与测钕玻璃包边9形成的干涉条纹中出现零场点,此时计算控制器会记录干涉条纹并计算出该待测区域各点的高度分布值,同时计算控制器会判读此时测角激光器8射出的激光光束经过标准块6左右两表面后射入到测角相机7上的光点的位置与基准点位置的偏移量、并根据偏移量计算得出此时标准块6相对于基准点位置时所对应的标准块6的偏转角,再根据偏转角计算得到该待测区域各点的附加高度起伏值,接着计算控制器会将所计算得到的该待测区域的高度分布值与附加高度起伏值进行叠加处理,计算得到该待测区域的相对高度分布值;
[0014] 接着将干涉仪4向右移至钕玻璃包边9的下一待测区域,然后再调整二维调整架5,直至标准块6的下表面与测钕玻璃包边9形成的干涉条纹中出现零场点,此时计算控制器会再次记录干涉条纹并计算出该待测区域各点的高度分布值,同时计算控制器会判读此时测角激光器8射出的激光光束经过标准块6左右两表面后射入到测角相机7上的光点的位置与基准点位置的偏移量、并根据偏移量计算得出此时标准块6相对于基准点位置时所对应的标准块6的偏转角,再根据偏转角计算得到该待测区域各点的附加高度起伏值,接着计算控制器会将所计算得到的该待测区域的高度分布值与附加高度起伏值进行叠加处理,计算得到该待测区域的相对高度分布值;
[0015] 重复上述步骤,直至完成待测钕玻璃包边所有区域的相对高度分布值测量,然后将所有区域的相对高度分布值进行多项式拟合处理得到待测钕玻璃包边的面形。
[0016] 本发明的优点是:能对标准块的相对偏转角进行测量,标准块相对偏转角可用于辅助修正干涉仪的测量值,大大提高了对钕玻璃包边的面形检测精度。
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