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镁制品镀膜方法

阅读：486发布：2021-03-02

IPRDB可以提供镁制品镀膜方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种镁制品镀膜方法，将基体材料作为阳极浸入含有基础液、发黑剂及络合剂的电解液中，其中所述发黑剂包括主发黑剂，所述主发黑剂为铜盐，将镁合金基体材料作为阳极浸入所述电解液中，在电解液中浸入另一种金属作为阴极，在两极间加电压放电直至在基体材料上形成黑色黑色镀膜。，下面是镁制品镀膜方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种镁制品镀膜方法，包括以下步骤：提供电解液，电解液包括基础液、发黑剂及络合剂，其中所述基础液包括强碱、氟化物及硅酸盐，所述发黑剂包括主发黑剂，所述主发黑剂为铜盐，所述络合剂包括氨水、乙二胺四乙酸、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺或氨水、乙二胺四乙酸、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺的盐类的一种或几种；将镁合金基体材料作为阳极浸入所述电解液中，在所述电解液中浸入另一种金属作为阴极；在两极间加电压放电直至在基体材料上形成黑色镀膜。

2.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述强碱包括氢氧化钾、氢氧化钠的一种或其组合，其浓度为2～25g/l。

3.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述氟化物包括氟化钾、氟化钠、氟化铵的一种或几种的组合，其浓度为1～30g/l。

4.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述硅酸盐包括硅酸钾、硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸钠中的一种或几种的组合，其含量为1～35g/l。

5.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述铜盐含量为0.3～9g/l。

6.如权利要求5所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述铜盐包括氢氧化铜、碱式碳酸铜、焦磷酸铜、柠檬酸铜的一种或几种的组合。

7.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述发黑剂还包括辅助发黑剂，所述辅助发黑剂为硝酸镍、钼酸铵、偏钒酸铵的一种或其几种的组合，其含量为0.1～8g/l。

8.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述络合剂含量为0.5～20g/l。

9.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述电解液还包括缓蚀剂，所述缓蚀剂包括含-NH2、-OH、-NO3吸附型基团的硫脲、间硝基苯磺酸钠、乌洛托品的一种或几种的组合，含量为0.1～5g/l。

10.如权利要求1所述的镁制品镀膜方法，其特征在于：所述电解液温度范围为10～

60℃。

说明书全文

镁制品镀膜方法

【技术领域】

[0001] 本发明是关于一种镁制品镀膜方法。

[0002] 【技术背景】

[0003] 镁合金材料因其比重小、电磁屏蔽性能优良、适合压铸大批量生产等优点，在工业上已经得到了广泛的应用。但是，由于镁及镁合金材料的化学性质活泼，镁制品必须进行适当的表面保护处理，以提高镁合金材料表面的耐腐蚀性及耐磨性。

[0004] 故而目前业界有采用镁合金微弧氧化技术对镁合金材料进行镀膜，如中国专利申请号86108405所揭示的一种镁制品的镀覆方法及所用的电解液，其采用碱金属硅酸盐(如硅酸钾)、碱金属氢氧化物(如氢氧化钾)及氟化物(如氟化钾)组成水溶液电解液，在浸于电解液中的镁制品与辅助阴极间加电压，通过火花放电，在镁合金表面形成覆层，使镁制品的耐蚀性、耐磨性有显著的提高。但是，该方法所形成的陶瓷质膜为氧化镁陶瓷膜，颜色为白色，对于外观要求为黑色的产品则需要再喷漆，在产品磨损掉漆后，白色陶瓷膜外露，破坏产品外观。

[0005] 【发明内容】

[0006] 有鉴于此，有必要提供一种镀膜为黑色的镁制品镀膜方法。

[0007] 一种镁制品镀膜方法，包括以下步骤：提供电解液，电解液包括基础液、发黑剂及络合剂，其中所述发黑剂包括主发黑剂，所述主发黑剂为铜盐；将镁合金基体材料作为阳极浸入所述电解液中，在所述电解液中浸入另一种金属作为阴极；在两极间加电压放电直至在基体材料上形成黑色镀膜。

[0008] 通过在电解液中加入发黑剂及络合剂，使在基体材料上生成的镀膜为黑色，满足镁制品黑色外观需求。

[0009] 【附图说明】

[0010] 图1是本发明镁制品镀膜方法的较佳实施方式的工艺流程图。

[0011] 图2是本发明镁制品的剖面结构示意图。

[0012] 【具体实施方式】

[0013] 请参照图1与图2，本发明镁制品镀膜方法应用于镁合金材料，将镁合金基体材料10作为阳极浸于电解液中，和浸于电解液中的阴极(如不锈钢或其它不溶性惰性金属)之间加电压直至金属表面产生电火花放电，在镁合金基体材料10上形成黑色镀膜20。镀膜电解液包括基础液、主发黑剂、辅助发黑剂、络合剂及缓蚀剂。电解液温度范围10～60℃。

[0014] 基础液包括强碱、氟化物、硅酸盐及水。强碱为氢氧化钾、氢氧化钠的一种或其组合，其浓度为2～25g/l。氟化物可以是氟化钾、氟化钠、氟化铵等含氟离子的化合物的一种或几种的组合，其浓度为1～30g/l。硅酸盐为硅酸钾、硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸钠等的一种或几种的组合，其含量为1～35g/l。

[0015] 主发黑剂主要为铜盐，包括氢氧化铜、碱式碳酸铜、焦磷酸铜、柠檬酸铜及其它含铜的金属盐的一种或几种的组合，其含量在0.3～9g/l。

[0016] 辅助发黑剂为硝酸镍、钼酸铵、偏钒酸铵的一种或几种的组合，其含量为0.1～8g/l。

[0017] 络合剂由氨水、乙二胺四乙酸(EDTA)、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺或氨水、乙二胺四乙酸(EDTA)、柠檬酸、酒石酸、乙二胺、三乙醇胺的盐类的一种或几种组成，含量为0.5～20g/l。

[0018] 缓蚀剂可增加黑度、防止腐蚀，其包括含-NH2、-OH、-NO3等吸附型基团的硫脲、间硝基苯磺酸钠、乌洛托品等的一种或几种的组合，含量为0～5g/l。

[0019] 下列各实施例是实施本发明所使用的代表性电解液及温度：

[0020] 实施例1

[0021] 氢氧化钠 25g/l

[0022] 硅酸钠 1g/l

[0023] 氟化钾 10g/l

[0024] 焦磷酸铜 4g/l

[0025] 硝酸镍 0.1g/l

[0026] 柠檬酸钠 8g/l

[0027] 硫脲 1g/l

[0028] 温度：35℃；

[0029] 镁制品镀膜膜厚10μm，黑色。

[0030] 实施例2

[0031] 氢氧化钠 13g/l

[0032] 硅酸钠 8g/l

[0033] 氟化钾 13g/l

[0034] 焦磷酸铜 1.8g/l

[0035] 硝酸镍 0.1g/l

[0036] 柠檬酸钠 5g/l

[0037] 硫脲 0.1g/l

[0038] 温度：25℃；

[0039] 镁制品镀膜膜厚14μm，黑色。

[0040] 实施例3

[0041] 氢氧化钾 2g/l

[0042] 硅酸钠 35g/l

[0043] 氟化钾 1g/l

[0044] 焦磷酸铜 6g/l

[0045] 硝酸镍 0.1g/l

[0046] 乙二胺四乙酸二钠 3g/l

[0047] 乌洛托品 0.1g/l

[0048] 温度：60℃；

[0049] 镁制品镀膜膜厚14μm，黑色略偏红。

[0050] 实施例4

[0051] 氢氧化钠 15g/l

[0052] 硅酸钠 21g/l

[0053] 氟化钾 10g/l

[0054] 氢氧化铜 0.3g/l

[0055] 钼酸铵 1g/l

[0056] 乙二胺 0.5g/l

[0057] 硫脲 1g/l

[0058] 温度：35℃；

[0059] 镁制品镀膜膜厚8μm，黑色。

[0060] 实施例5

[0061] 氢氧化钠 3g/l

[0062] 硅酸钠 4g/l

[0063] 氟化钾 30g/l

[0064] 氢氧化铜 4.5g/l

[0065] 钼酸铵 0.6g/l

[0066] 乙二胺 0.5g/l

[0067] 柠檬酸钠 8g/l

[0068] 硫脲 1.5g/l

[0069] 温度：35℃；

[0070] 镁制品镀膜膜厚12μm，黑色。

[0071] 实施例6

[0072] 氢氧化钾 15g/l

[0073] 硅酸钠 21g/l

[0074] 氟化钾 10g/l

[0075] 氢氧化铜 1g/l

[0076] 焦磷酸铜 8g/l

[0077] 偏钒酸铵 4g/l

[0078] 乙二胺 5g/l

[0079] 柠檬酸钠 15g/l

[0080] 硫脲 1g/l

[0081] 温度：35℃；

[0082] 镁制品镀膜膜厚18μm，黑色偏蓝。

[0083] 实施例7

[0084] 氢氧化钾 15g/l

[0085] 硅酸钠 3g/l

[0086] 氟化钾 15g/l

[0087] 焦磷酸铜 1g/l

[0088] 偏钒酸铵 8g/l

[0089] 乙二胺 2g/l

[0090] 酒石酸钾钠 12g/l

[0091] 温度：35℃；

[0092] 镁制品镀膜膜厚11μm，黑色。

[0093] 实施例8

[0094] 氢氧化钾 25g/l

[0095] 硅酸钠 11g/l

[0096] 氟化钾 10g/l

[0097] 氢氧化铜 1g/l

[0098] 焦磷酸铜 2g/l

[0099] 偏钒酸铵 2g/l

[0100] 乙二胺 1g/l

[0101] 柠檬酸钠 8g/l

[0102] 硫脲 1g/l

[0103] 乌洛托品 4g/l

[0104] 温度：10℃；

[0105] 镁制品镀膜膜厚5μm，黑色。

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