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首页 / 专利库 / 真空技术 / 真空 / 一种真空脱蜡系统

一种真空脱蜡系统

阅读:1160发布:2020-10-25

IPRDB可以提供一种真空脱蜡系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本发明提供了一种真空脱蜡系统,包括脱蜡系统、旋片泵通过管道连接组成,脱蜡系统包括主脱蜡器和次脱蜡器,其在旋片泵的前端设有一补集器。该真空脱蜡系统在运行时有效解决了现有技术的设备运行结垢堵塞的问题。,下面是一种真空脱蜡系统专利的具体信息内容。

1.一种真空脱蜡系统,包括脱蜡系统、旋片泵通过管道连接组成,脱蜡系统包括主脱蜡器和次脱蜡器,其特征在于,在旋片泵的前端设有一补集器。

2.根据权利要求1所述的真空脱蜡系统,其特征在于,补集器与旋片泵的之间设有一真空截止阀,真空截止阀固定在支架上。

3.根据权利要求1所述的真空脱蜡系统,其特征在于,真空截止阀与旋片泵的之间通过螺钉连接一电磁挡板充气阀。

4.根据权利要求1所述的真空脱蜡系统,其特征在于,补集器由多层筛网组成。

5.根据权利要求1所述的真空脱蜡系统,其特征在于,主脱蜡器的内部放置一台列管式冷凝器,外部设置一台加热系统。

6.根据权利要求1所述的真空脱蜡系统,其特征在于,次脱蜡器设有一并联交替通断的管路。

7.根据权利要求1或5所述的真空脱蜡系统,其特征在于,主脱蜡器的下部还包括多个储蜡器。

说明书全文

一种真空脱蜡系统

技术领域

[0001] 本发明涉一种针对粉末冶金真空脱蜡烧结系统。

背景技术

[0002] 粉末冶金产品的配比多种多样,导致了作为成型剂的蜡、脂、胶类的含量各不相同,因此针对脱蜡器的要求也不尽相同,目前的真空脱蜡系统由于工艺原因经常造成设备运行时结垢而导致堵塞的情况,严重影响了设备运行效率及工厂的正常运行。

发明内容

[0003] 针对现有技术的上述缺陷和问题,本发明目的是提供了一种在运行时有效解决了现有技术的设备运行结垢堵塞的问题的真空脱蜡系统。
[0004] 为了达到上述目的,本发明提供如下技术方案:
[0005] 一种真空脱蜡系统,包括脱蜡系统、旋片泵通过管道连接组成,脱蜡系统包括主脱蜡器和次脱蜡器,其在旋片泵的前端设有一补集器;
[0006] 进一步,在补集器与旋片泵的之间设有一真空截止阀,真空截止阀固定在支架上;
[0007] 进一步,在真空截止阀与旋片泵的之间通过螺钉连接一电磁挡板充气阀;
[0008] 进一步,补集器由多层筛网组成。
[0009] 本发明的有益效果是,由于在旋片泵的前端设有一补集器,大大地降低了设备结构和堵塞的可能性,有利于提高设备的利用率。

附图说明

[0010] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0011] 图1是本发明的真空脱蜡系统的结构示意图。

具体实施方式

[0012] 下面将结合本发明的附图,对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0013] 如图1所示,本发明公开一种真空脱蜡系统,包括脱蜡系统、旋片泵3通过管道连接组成,脱蜡系统包括主脱蜡器1和次脱蜡器2,其在旋片泵3的前端设有一补集器4,补集器4由多层筛网组成,防止固体颗粒,粉尘等进入机械真空泵中污染泵。
[0014] 其中,主脱蜡器1的内部放置一台列管式冷凝器,外部设置一台加热系统5,换热面积较大,气体经过几次旋绕冷却后可以进一步液化流到下部集成的可拆卸的储蜡器6中,其中,储蜡器6可以是多个;由于列管换热器的空隙较大,一般不会发生堵塞。
[0015] 优选的技术方案中,在补集器4与旋片泵3的之间设有一真空截止阀7,真空截止阀7固定在支架上8;
[0016] 优选的技术方案中,在真空截止阀与旋片泵的之间通过螺钉连接一电磁挡板充气阀9;
[0017] 剩下还会有一些低沸点的蒸气未经补集被抽到次脱蜡器2中,该脱蜡器的间隙较小,需要强制气流进行热交换和补集方能奏效,由于间隙小,因此在次脱蜡器设有一并联交替通断的管路10;
[0018] 具体在运行时用其中一路,另一路用阀门截止,开启管外的加热系统,让堵塞的地方融化掉流下,然后交替使用。最后在泵前有最后一道防护,放置了一个补集器,由多层筛网组成,防止固体颗粒,粉尘等进入机械真空泵中污染泵。
[0019] 在脱蜡结束后,可以将真空和脱蜡系统使用截止阀断开,开启管路加热系统,使蜡液化流入储蜡器中,清理完毕后可进行下一次脱蜡工艺。
[0020] 以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
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