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镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室

阅读：862发布：2020-05-13

IPRDB可以提供镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种等离子气氛稳定性较好的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。本发明适用于镀膜玻璃生产装置。，下面是镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室专利的具体信息内容。

1、镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔 离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，其特征在于：在玻璃输 送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。

2、按照权利要求1所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，其特征在于：所 述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。

说明书全文

技术领域

本发明涉及到一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。

背景技术

传统的镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃两侧抽真空时普 遍存在等离子气氛不稳定的现象，极易造成镀膜膜层的不均匀性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：将提供一种等离子气氛稳定性较好的镀膜 玻璃用磁控镀膜真空腔室。
为解决上述问题，本发明采用的技术方案是：镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔 室，包括：腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设 有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。
所述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。
本发明的优点是：通过采用气氛隔离挡板，使得在对玻璃上、下表面抽真 空的时候，能提高等离子气氛的稳定性。

附图说明

图1是本发明所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室主视方向的内部结构图。
图中：1、腔室，2、隔离通道，21、墙板，3、玻璃输送通道，4、气氛隔 离挡板。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明所述的技术方案和优点作进一步的 描述。
如图1所示，一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括：腔室1，设置在 腔室1内的三个隔离通道2，在每个隔离通道2上分别开设有玻璃输送通道3， 在玻璃输送通道3的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板4。所述的气氛隔离挡 板4设置在构成隔离通道2的墙板21上。
本发明的优点是：在对腔室进行抽真空时，提高了玻璃横向表面的等离子 气氛的稳定性及玻璃的镀膜质量。
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