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一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法

阅读：1028发布：2020-10-18

IPRDB可以提供一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及一种在真空状态的镀膜腔室下可对镀膜产品进行表面清洁的净化设备，尤指一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法，安装在镀膜机炉体内，主要包括镀膜治具、电子束蒸发装置、氮气装置、离子装置和净化除尘装置，镀膜治具为安装在镀膜机炉体内顶部的大型伞形状，镀膜治具通过中轴处连接的旋转中轴使镀膜治具活动安装在镀膜机炉体顶壁中央，氮气装置主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成，离子装置主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成；净化除尘装置设置在镀膜治具的邻近处；本发明具有安装维护方便、维护成本低等特点，同时工艺操作简单、产能最大化、效率高、节约人力。，下面是一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，离子净化系统安装在镀膜机炉体内，其特征在于：所述的离子净化系统主要包括镀膜治具、电子束蒸发装置、氮气装置、离子装置和净化除尘装置，其中，所述的镀膜治具为安装在镀膜机炉体内顶部的大型伞形状，镀膜治具的中轴处连接有旋转中轴，通过旋转中轴使镀膜治具活动安装在镀膜机炉体顶壁中央，镀膜治具表面印设有适配产品排列定位的型印；

所述的氮气装置和离子装置安装在镀膜机炉体的底部，氮气装置主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成，氮气源发生器通过气体流量调节阀、调压阀而调节氮气流速与氮气压力；离子装置主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成；

所述的净化除尘装置设置在镀膜治具的邻近处，主要由离子棒、吸尘管、高压电源、离子针和固定件组成，离子棒为细长条管状，轴套安装在吸尘管内，吸尘管管壁开设有10-20个纵向排列的通孔为吸风口，离子针设置在离子棒上，且离子针针向正对吸风口，净化除尘装置通过固定件焊接或紧扣连接有除尘装置支撑架。

2.根据权利要求1所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，其特征在于：所述的净化除尘装置通过除尘装置支撑架倾斜或水平安装在镀膜机炉体内，除尘装置支撑架包括横向支撑杆与竖直支撑杆，竖直支撑杆底部固定在炉体底面，顶部与横向支撑杆铰接连接，形成横向支撑杆可沿铰接点转动的安装结构。

3.根据权利要求2所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，其特征在于：所述镀膜机炉体内的净化除尘装置设置有1-3个，除尘装置支撑架对应设置有1-3个。

4.根据权利要求1所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，其特征在于：所述的镀膜机炉体顶壁安装有与旋转中轴电连接的旋转驱动装置。

5.根据权利要求1或4所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，其特征在于：所述旋转中轴成形为包括一中间轴段与两端凸缘的线圈状，其中间轴段贯穿镀膜机炉体与镀膜治具开设的中轴孔，同时中轴孔的外径小于旋转中轴的凸缘外径，其中，旋转中轴的上凸缘抵在镀膜机炉体上表面，下凸缘抵在镀膜治具下表面。

6.根据权利要求3所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，其特征在于：所述的电子束蒸发装置固定安装在镀膜机炉体的底部，通过电子束蒸发装置加热镀膜材料后蒸发镀膜到产品表面。

7.一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法，其特征在于，所述的净化方法包括以下步骤：

1）将镀膜机炉体调至真空环境，使炉体为无压状态；

2）开启氮气源发生器，为离子净化系统供给氮气源；

3）开启离子推进器的电源，使其离子源引出离子束流，以完成产品表面净化清洁工作；

4）启动净化除尘装置，设定净化时间，完成产品表面二次净化清洁工作。

8.根据权利要求7所述的一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法，其特征在于：当所述离子净化系统设置有2-3个净化除尘装置时，净化除尘装置的工作次序为：首先启动第一个净化除尘装置，设定其净化时间，在净化时间临近结束时，关闭第一个净化除尘装置，启动另一个净化除尘装置，同时设定其净化时间，以此循环。

说明书全文

一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种在真空状态的镀膜腔室下可对镀膜产品进行表面清洁的净化设备，尤指一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法。

背景技术

[0002] 在目前，工业生产中常采用光学真空蒸发镀膜设备为产品表面镀制涂覆膜层，而产品范围十分广泛，如磁性材料、医疗器具器械部件、电路板、电子元器件、半导体材料、光学器件、光电产品、手机配件、饰物或其原材料等，由于镀膜技术的日益成熟使得镀膜效果也较为满意，但是，在真空蒸发镀膜设备的镀膜炉腔室内，由于长期作业使其炉体内壁产生灰尘积层，而这些灰尘积层在产品镀膜过程中会由于镀膜炉腔室内产生的束流撞击而发生散射，甚至沉积到待镀膜或者正在镀膜的产品上，造成产品表面存在灰层或脏污点，严重地影响产品质量。

[0003] 为解决上述问题，工业生产中会采取清洁设备来进行对产品表面进行净化清洁，鉴于真空镀膜腔室的特殊环境，因此采用了离子源为清洁设备，一般情况下离子源开启后能对产品表面也可做清洁，但是，由于产品的材质、结构或形状的不定向性以及产品加工工艺的限制性，例如光学性能规格要求较高的产品，若长时间开启离子源对产品表面进行净化，则会影响产品的光学性能以及改变产品的外观颜色，使产品质量产生局部变异，亦然影响产品的质量，但光学性能要求较高的产品对其无尘室洁净度要求也较高，关闭离子源则使其作用停止时，产品因失去净化源而产品或多或少的灰层或脏污物沉积。

[0004] 由此可见，产品镀膜时其作业环境也相当重要，其环境的洁净度是无法忽视的问题，若将产品置于千级无尘车间进行镀膜作业，则会产生制造成本过高、资源严重消耗等问题，若将产品置于一般真空镀膜炉腔室进行镀膜作业，则会影响产品质量，使作业过程生产良率低，作业进度缓慢，亦使得资源、人力、时间严重损耗。

发明内容

[0005] 为解决上述问题，本发明旨在公开一种在真空状态的镀膜腔室下可对镀膜产品进行表面清洁的净化设备，尤指一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统及其净化方法。

[0006] 为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，离子净化系统安装在镀膜机炉体内，其特征在于：所述的离子净化系统主要包括镀膜治具、电子束蒸发装置、氮气装置、离子装置和净化除尘装置，其中，所述的镀膜治具为安装在镀膜机炉体内顶部的大型伞形状，镀膜治具的中轴处连接有旋转中轴，通过旋转中轴使镀膜治具活动安装在镀膜机炉体顶壁中央，镀膜治具表面印设有适配产品排列定位的型印；所述的氮气装置和离子装置安装在镀膜机炉体的底部，氮气装置主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成，氮气源发生器通过气体流量调节阀、调压阀而调节氮气流速与氮气压力；离子装置主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成；
所述的净化除尘装置设置在镀膜治具的邻近处，主要由离子棒、吸尘管、高压电源、离子针和固定件组成，离子棒为细长条管状，轴套安装在吸尘管内，吸尘管管壁开设有10-20个纵向排列的通孔为吸风口，离子针设置在离子棒上，且离子针针向正对吸风口，净化除尘装置通过固定件焊接或紧扣连接有除尘装置支撑架。

[0007] 所述的净化除尘装置通过除尘装置支撑架倾斜或水平安装在镀膜机炉体内，除尘装置支撑架包括横向支撑杆与竖直支撑杆，竖直支撑杆底部固定在炉体底面，顶部与横向支撑杆铰接连接，形成横向支撑杆可沿铰接点转动的安装结构。

[0008] 所述镀膜机炉体内的净化除尘装置设置有1-3个，除尘装置支撑架对应设置有1-3个。

[0009] 所述的镀膜机炉体顶壁安装有与旋转中轴电连接的旋转驱动装置。

[0010] 所述旋转中轴成形为包括一中间轴段与两端凸缘的线圈状，其中间轴段贯穿镀膜机炉体与镀膜治具开设的中轴孔，同时中轴孔的外径小于旋转中轴的凸缘外径，其中，旋转中轴的上凸缘抵在镀膜机炉体上表面，下凸缘抵在镀膜治具下表面。

[0011] 所述的电子束蒸发装置固定安装在镀膜机炉体的底部，通过电子束蒸发装置加热镀膜材料后蒸发镀膜到产品表面。

[0012] 一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法，其特征在于，所述的净化方法包括以下步骤：1）将镀膜机炉体调至真空环境，使炉体为无压状态；
2）开启氮气源发生器，为离子净化系统供给氮气源；
3）开启离子推进器的电源，使其离子源引出离子束流，以完成产品表面净化工作；
4）启动净化除尘装置，设定净化时间，完成产品表面二次净化清洁工作。

[0013] 当所述离子净化系统设置有2-3个净化除尘装置时，净化除尘装置的工作次序为：首先启动第一个净化除尘装置，设定其净化时间，在净化时间临近结束时，关闭第一个净化除尘装置，启动另一个净化除尘装置，同时设定其净化时间，以此循环。

[0014] 本发明的有益效果体现在：本发明针对镀膜炉腔室内净化不完全的问题，实现二次净化的工作系统，克服了一般镀膜炉腔室内产品表面质量受影响而造成产品良率低下、制造成本过高等缺陷，从而提高了产品镀膜的良品率。

[0015] 本发明采用氮气装置、离子装置和净化除尘装置的结合，使真空状态下的镀膜机炉体在不停机持续镀膜作业的情况下依然能够对镀膜产品进行二次净化除尘，也满足光学真空镀膜设备对镀膜产品的光学性能以及高洁净度要求，对产品表面完成二次净化除尘可增加其效率和产能，适用于多种大型光学镀膜设备，且本发明具有不易变形、安装维护方便、维护成本低等特点，同时工艺操作简单、总成本低，具有产能最大化、效率高、节约人力等特点。

附图说明

[0016] 图1是本发明的整体结构简单示意图。

[0017] 图2是本发明的净化除尘装置示意简图。

[0018] 附图标注说明：1-镀膜机炉体，2-镀膜治具，3-电子束蒸发装置，4-氮气装置，5-离子装置，6-净化除尘装置，7-除尘装置支撑架，8-旋转驱动装置， 61-离子棒，62-吸尘管，63-离子针，64-吸风口，65-固定件。

具体实施方式

[0019] 下面结合附图详细说明本发明的具体实施方式：一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统，离子净化系统安装在镀膜机炉体1内，所述的离子净化系统主要包括镀膜治具2、电子束蒸发装置3、氮气装置4、离子装置5和净化除尘装置6，其中，所述的镀膜治具2为安装在镀膜机炉体1内顶部的大型伞形状，镀膜治具2的中轴处连接有旋转中轴，通过旋转中轴使镀膜治具2活动安装在镀膜机炉体1顶壁中央，镀膜治具2表面印设有适配产品排列定位的型印；所述的镀膜机炉体1顶壁安装有与旋转中轴电连接的旋转驱动装置8，所述旋转中轴成形为包括一中间轴段与两端凸缘的线圈状，其中间轴段贯穿镀膜机炉体1与镀膜治具2开设的中轴孔，同时中轴孔的外径小于旋转中轴的凸缘外径，其中，旋转中轴的上凸缘抵在镀膜机炉体1上表面，下凸缘抵在镀膜治具2下表面。

[0020] 所述的氮气装置4和离子装置5安装在镀膜机炉体1的底部，氮气装置4主要由相互连接的氮气源发生器和供氮管道、气体流量调节阀、调压阀、单向阀组成，氮气源发生器通过气体流量调节阀、调压阀而调节氮气流速与氮气压力；离子装置5主要由电性连接的离子推进器和离子转换器组成；所述对镀膜产品二次清洁的离子净化系统需要在氮气环境下进行，因此氮气装置4可提供安全可靠的净化环境；所述的电子束蒸发装置3固定安装在镀膜机炉体1的底部，通过电子束蒸发装置3加热镀膜材料后蒸发镀膜到产品表面。

[0021] 所述的净化除尘装置6设置在镀膜治具2的邻近处，主要由离子棒61、吸尘管62、高压电源、离子针63和固定件65组成，离子棒61为细长条管状，轴套安装在吸尘管62内，吸尘管62管壁开设有10-20个纵向排列的通孔为吸风口64，离子针63设置在离子棒61上，且离子针63针向正对吸风口64，净化除尘装置6通过固定件65焊接或紧扣连接有除尘装置支撑架7；所述的净化除尘装置6通过除尘装置支撑架7倾斜或水平安装在镀膜机炉体1内，除尘装置支撑架7包括横向支撑杆与竖直支撑杆，竖直支撑杆底部固定在炉体底面，顶部与横向支撑杆铰接连接，形成横向支撑杆可沿铰接点转动的安装结构；所述镀膜机炉体1内的净化除尘装置6设置有1-3个，除尘装置支撑架7对应设置有1-3个。

[0022] 一种对镀膜产品二次清洁的离子净化系统的净化方法，所述的净化方法包括以下步骤：1）将镀膜机炉体1调至真空环境，使炉体为无压状态；
2）开启氮气源发生器，为离子净化系统供给氮气源，氮气源为产品清洁工作提供安全可靠的净化环境；
3）开启离子推进器的电源，使其离子源引出离子束流，以完成产品表面净化工作，离子推进器可通过离子转换器转换离子；
4）启动净化除尘装置6，设定净化时间，完成产品表面二次净化清洁工作。

[0023] 当所述离子净化系统设置有2-3个净化除尘装置6时，净化除尘装置6的工作次序为：首先启动第一个净化除尘装置6，设定其净化时间，在净化时间临近结束时，关闭第一个净化除尘装置6，启动另一个净化除尘装置6，同时设定其净化时间，以此循环，使得各个净化除尘装置6相互配合持续工作，而且可以保证使用性能以及延长使用寿命。

[0024] 以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明的技术范围作任何限制，本行业的技术人员，在本技术方案的启迪下，可以做出一些变形与修改，凡是依据本发明的技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

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