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镀膜装置

阅读：1028发布：2020-06-28

IPRDB可以提供镀膜装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通。，下面是镀膜装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体和第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体和第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，该第一镀膜腔体内设置有第一旋转螺杆，第一旋转螺杆沿第一镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第一旋转螺杆不超出第一镀膜腔体，第一旋转螺杆可相对第一镀膜腔体转动，该第二镀膜腔体内设置有第二旋转螺杆，第二旋转螺杆沿第二镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第二旋转螺杆不超出第二镀膜腔体，第二旋转螺杆可相对第二镀膜腔体转动，该第一镀膜腔体具有与缓冲腔体相对的侧壁以及与该侧壁相连接的底壁，该第二镀膜腔体也具有与缓冲腔体相对的侧壁以及与侧壁相连接的底壁，该第一旋转螺杆设置在第一镀膜腔体的侧壁上，该第二旋转螺杆设置在第二镀膜腔体的侧壁上，该第一镀膜腔体形成有收容腔，该收容腔内收容有基板固定座，该基板固定座开设有与第一旋转螺杆相螺合的螺纹孔，基板固定座通过该螺纹孔螺合固定至第一旋转螺杆，该第一镀膜腔体设置有第一伸缩杆，该第一伸缩杆的一端固定在第一镀膜腔体的侧壁上，该第一伸缩杆位于第一旋转螺杆的一侧，该第一伸缩杆可沿平行于第一镀膜腔体中心轴线的方向伸缩，该第二镀膜腔体设置有第二伸缩杆，该第二伸缩杆的一端固定在第二镀膜腔体的侧壁上，该第二伸缩杆位于第二旋转螺杆的一侧，该第二伸缩杆可沿平行于第二镀膜腔体中心轴线的方向伸缩。

2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该第一镀膜腔体与第二镀膜腔体的底壁上均开设有用于放置镀膜材料的凹槽。

3.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该基板固定座开设有与该第一伸缩杆相配合的固定孔。

4.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该辅腔体的数量为两个，该两个辅腔体对称设置在主腔体的两侧。

5.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，该阻隔体为两个，该两个阻隔体分别收容在该两个辅腔体内，该两个阻隔体均为半圆柱体，且半径相等。

说明书全文

镀膜装置

技术领域

[0001] 本发明涉及镀膜技术，特别涉及一种用于基板表面镀膜的镀膜装置。

背景技术

[0002] 随着各种电子产品的飞速发展，消费群体对电子产品的要求越来越高，例如电子产品外观色彩、电磁屏蔽功能、防氧化腐蚀功能等等。因此，电子产品各零组件的镀膜处理技术显得越来越重要，镀膜品质的好坏直接影响着电子产品上述各种性能的优劣。

[0003] 并且，随着对镀膜质量的要求不断提高，对一些较为重要的零组件，需要镀上两种或两种以上不同的膜层，以使得电子产品具有更优越的性能。目前，在需要镀多种膜层时，一般为先在一个镀膜装置中镀上第一膜层，然后再拿出来放到另一个镀膜装置中镀上第二膜层。然而，由于镀膜基板在镀上第一膜层与第二膜层之间需要暴露在外界空气中，因此很可能造成第一膜层与第二膜层之间的结合力不佳，进而影响膜层质量及其性能，并且其镀膜效率相对较低。

[0004] 因此，有必要提供一种镀膜效率较高、膜层质量及性能较佳的镀膜装置。

发明内容

[0005] 下面将以具体实施例说明一种镀膜装置。

[0006] 一种镀膜装置，包括第一镀膜腔体、第二镀膜腔体、缓冲腔体、阻隔体、直线驱动装置，该缓冲腔体与该第一镀膜腔体和第二镀膜腔体相连，该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体和第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，该阻隔体收容在该辅腔体内，该直线驱动装置固定于该辅腔体并与该阻隔体相连接，该直线驱动装置驱动该阻隔体移动至该主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，该第一镀膜腔体内设置有第一旋转螺杆，第一旋转螺杆沿第一镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第一旋转螺杆不超出第一镀膜腔体，第一旋转螺杆可相对第一镀膜腔体转动，该第二镀膜腔体内设置有第二旋转螺杆，第二旋转螺杆沿第二镀膜腔体的中心轴线向缓冲腔体方向延伸且第二旋转螺杆不超出第二镀膜腔体，第二旋转螺杆可相对第二镀膜腔体转动，该第一镀膜腔体具有与缓冲腔体相对的侧壁以及与该侧壁相连接的底壁，该第二镀膜腔体也具有与缓冲腔体相对的侧壁以及与侧壁相连接的底壁，该第一旋转螺杆设置在第一镀膜腔体的侧壁上，该第二旋转螺杆设置在第二镀膜腔体的侧壁上，该第一镀膜腔体形成有收容腔，该收容腔内收容有基板固定座，该基板固定座开设有与第一旋转螺杆相螺合的螺纹孔，基板固定座通过该螺纹孔螺合固定至第一旋转螺杆，该第一镀膜腔体设置有第一伸缩杆，该第一伸缩杆的一端固定在第一镀膜腔体的侧壁上，该第一伸缩杆位于第一旋转螺杆的一侧，该第一伸缩杆可沿平行于第一镀膜腔体中心轴线的方向伸缩，该第二镀膜腔体设置有第二伸缩杆，该第二伸缩杆的一端固定在第二镀膜腔体的侧壁上，该第二伸缩杆位于第二旋转螺杆的一侧，该第二伸缩杆可沿平行于第二镀膜腔体中心轴线的方向伸缩。

[0007] 相对于现有技术，本技术方案的镀膜装置利用缓冲腔体连接在第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间，其中该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，利用直线驱动装置可驱动收容在辅腔体内的阻隔体移动至主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，使得待镀基板在第一腔体镀完第一膜层后可进入到第二腔体内继续镀上第二膜层，从而可实现连续镀膜的目的，提高镀膜效率；并且，由于阻隔体的阻隔作用，在第一镀膜腔体或第二镀膜腔体镀膜过程中可有效防止两个腔体之间的相互污染。

附图说明

[0008] 图1是本技术方案实施例提供的镀膜装置的组装图。

[0009] 图2是图1的镀膜装置的第一分解示意图。

[0010] 图3是图1的镀膜装置的第二分解示意图。

[0011] 图4是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第一镀膜状态示意图。

[0012] 图5是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第二镀膜状态示意图。

[0013] 图6是本技术方案实施例提供的镀膜装置的第三镀膜状态示意图。

具体实施方式

[0014] 下面将结合附图和实施例对本技术方案的镀膜装置作进一步详细说明。

[0015] 本技术方案实施例提供的镀膜装置100，包括第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20、缓冲腔体30、阻隔体40、直线驱动装置50。缓冲腔体30与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相连通。缓冲腔体30包括与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相对的主腔体32以及与该主腔体相连通的辅腔体34。阻隔体40收容在辅腔体34内。直线驱动装置50固定于辅腔体34并与阻隔体40相连接，直线驱动装置50驱动阻隔体40移动至主腔体32内以阻断第一镀膜腔体10与第二镀膜腔体20之间的气体流通。

[0016] 具体地，请参阅图1-4，第一镀膜腔体10具有与缓冲腔体30相对的侧壁11以及与侧壁11相连接的底壁12。第一镀膜腔体10的侧壁11与底壁12围合形成一收容腔101。本实施例中，底壁12上开设有用于放置镀膜材料的凹槽122。

[0017] 第一镀膜腔体10的侧壁11上设置有第一旋转螺杆61。第一旋转螺杆61可相对第一镀膜腔体10转动。第一旋转螺杆61沿第一镀膜腔体10的中心轴线向缓冲腔体30方向延伸，且第一旋转螺杆61不超出第一镀膜腔体10。第一旋转螺杆61表面设置有外螺纹。

[0018] 第一镀膜腔体10还设置有第一伸缩杆71。第一伸缩杆71的一端固定在侧壁11上。第一伸缩杆71位于第一旋转螺杆61的一侧，第一伸缩杆71可沿平行于第一镀膜腔体10中心轴线的方向伸缩。第一伸缩杆71设置的数量并无特殊限定，其可为一个、两个或多于两个。本实施例中的镀膜装置100设置有两个第一伸缩杆71。

[0019] 收容腔101内收容有基板固定座80。基板固定座80开设有与第一旋转螺杆61相螺合的螺纹孔802，以及与第一伸缩杆71相配合的固定孔804。基板固定座80通过螺纹孔802螺合固定至第一旋转螺杆61，从而基板固定座80可在第一旋转螺杆61的带动下以该第一旋转螺杆61为轴转动。第一伸缩杆71伸长卡合在固定孔804后，由于基板固定座80不能转动，基板固定座80可向缓冲腔体10方向移动并逐渐与第一旋转螺杆61相分离。

[0020] 基板固定座80上还开设有多个基板收容槽806。基板收容槽806与底壁12上的凹槽122相对，用于收容待镀膜的基板（图未示）。本实施例中，该多个基板收容槽806设置成两排，该两排基板收容槽806分别位于基板固定座80相对的两侧。当然，该基板固定座80上还可开设一排或多于两排的基板收容槽806，其并无特殊限定。另外，该多个基板收容槽806还可以不规则的排布方式开设在基板收容座80上。

[0021] 第二镀膜腔体20与第一镀膜腔体10的结构类似。

[0022] 第二镀膜腔体20同样具有底壁21以及与底壁21相连接的侧壁22。底壁21与侧壁22围合形成一收容腔201。本实施例中，侧壁22上开设有用于放置镀膜材料的凹槽222。

[0023] 第二镀膜腔体20的侧壁21上设置有第二旋转螺杆62。第二旋转螺杆62可相对第二镀膜腔体20转动。第二旋转螺杆62沿第二镀膜腔体20的中心轴线向缓冲腔体30方向延伸，且第二旋转螺杆62不超出第二镀膜腔体20。第二旋转螺杆62表面设置有外螺纹。

[0024] 第二镀膜腔体20还设置有第二伸缩杆72。第二伸缩杆72的一端固定在侧壁21上。第二伸缩杆72位于第二旋转螺杆62的一侧，第二伸缩杆72可沿平行于第二镀膜腔体20中心轴线的方向伸缩。第二伸缩杆72设置的数量也并无特殊限定，其可为一个、两个或多于两个。本实施例中的镀膜装置100设置有两个第二伸缩杆72。

[0025] 当第一旋转螺杆61与第一伸缩杆71配合将基板固定座80移动至缓冲腔体30时，第二伸缩杆72伸长至与基板固定座80的固定孔804内，第二旋转螺杆62开始与基板固定座80的螺纹孔802相螺合。基板固定座80与第一旋转螺杆61及第一伸缩杆71相分离，并在第二旋转螺杆62与第二伸缩杆72的配合下向第二镀膜腔体20移动至基板固定座80完全收容在收容腔201内，最后第二伸缩杆72收缩并与固定孔804相分离。

[0026] 本实施例中，缓冲腔体30包括一个与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相对的主腔体32以及与主腔体32相连通的两个辅腔体34。两个辅腔体34对称设置在主腔体32相对的两侧。

[0027] 主腔体32的两端分别与第一镀膜腔体10、第二镀膜腔体20相连。基板固定座80通过主腔体32从第一镀膜腔体10移动至第二镀膜腔体20，或者从第二镀膜腔体20移动至第一镀膜腔体10。

[0028] 辅腔体34具有与主腔体32相对的底壁341以及连接该底壁341的侧壁342。本实施例中，辅腔体34与主腔体32轴线垂直的一个侧壁342上开设有通孔302。通孔302的横截面为半圆形。当然，该通孔302的开设并不是必需的，其也可以没有通孔302。

[0029] 本实施例中，阻隔体40为两个，其分别收容在两个辅腔体34内。两个阻隔体40均为半圆柱体，且半径相等。阻隔体40在主腔体32轴线方向的长度等于辅腔体34在主腔体32轴线方向的宽度。从而当阻隔体40经由通孔302进入到辅腔体34后，阻隔体40可与主腔体32轴线垂直的两相对侧壁42紧密接触。

[0030] 直线驱动装置50的一端固定在辅腔体34的底壁341，另一端连接至阻隔体40。直线驱动装置50可驱动阻隔体40向靠近主腔体32或远离主腔体32的方向移动。直线驱动装置50可为直线驱动机械马达、直线驱动液压马达或直线驱动气动马达等。

[0031] 可以理解的是，阻隔体40也可为一个，该阻隔体40与主腔体32的尺寸大小相匹配，例如阻隔体40可为圆柱体。相对应地，辅腔体34与直线驱动装置50也只需要一个。

[0032] 镀膜装置100的工作过程如下：首先，如图4所示，将待镀基板放置固定于基板固定座80上的基板收容槽806，将基板固定座80旋合固定至第一旋转螺杆61，直线驱动装置50驱动阻隔体40向主腔体32方向移动，直至阻隔体40到达主腔体32并阻断第一镀膜腔体10与第二镀膜腔体20之间的气体流通，第一旋转螺杆61带动基板固定座80旋转以在第一镀膜腔体10内进行镀膜并在待镀基板上形成第一膜层；接着，如图5所示，直线驱动装置50驱动阻隔体40向远离主腔体32方向移动，阻隔体40收容至辅腔体34内，第一伸缩杆71伸长并与基板固定座80的固定孔804卡合，第一旋转螺杆61转动以使得基板固定座
80向主腔体32移动直至与第一旋转螺杆61相分离；然后，如图6所示，第二伸缩杆72伸长至与基板固定座80的固定孔804相卡合，第二旋转螺杆62与基板固定座80的螺纹孔802相螺合并带动基板固定座80向第二镀膜腔体20移动，直至基板固定座80完全收容在第二镀膜腔体20内，第二伸缩杆72收缩至与基板固定座80的固定孔804相分离，直线驱动装置50驱动阻隔体40至主腔体32内以阻断第一镀膜腔体10与第二镀膜腔体20之间的气体流通；最后，第二旋转螺杆62带动基板固定座80旋转以在第二镀膜腔体20内进行镀膜并在待镀基板上形成第二膜层。

[0033] 可以理解的是，该镀膜装置100还可以设置多于两个的镀膜腔体，而每两个镀膜腔体之间设置有缓冲腔体30，从而可实现对待镀基板进行多层镀膜的目的。

[0034] 相对于现有技术，本技术方案的镀膜装置利用缓冲腔体连接在第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间，其中该缓冲腔体包括与第一镀膜腔体、第二镀膜腔体相对的主腔体以及与该主腔体相连通的辅腔体，利用直线驱动装置可驱动收容在辅腔体内的阻隔体移动至主腔体内以阻断第一镀膜腔体与第二镀膜腔体之间的气体流通，使得待镀基板在第一腔体镀完第一膜层后可进入到第二腔体内继续镀上第二膜层，从而可实现连续镀膜的目的，提高镀膜效率；并且，由于阻隔体的阻隔作用，在第一镀膜腔体或第二镀膜腔体镀膜过程中可有效防止两个腔体之间的相互污染。

[0035] 可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本技术方案的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本技术方案权利要求的保护范围。

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