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序号	专利名	申请号	申请日	公开（公告）号	公开（公告）日	发明人
1	一种金刚石研磨液及其制备方法	CN202410065053.5	2024-01-17	CN117903703A	2024-04-19	刘小勇; 邱小真; 房龙翔; 叶鑫煌; 肖小江; 刘文生; 吴远超
本发明公开了一种金刚石研磨液及其制备方法，该研磨液是由改性磨料、有机溶剂和表面活性剂组成。该金刚石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会产生沉降分层现象，解决了市面上产品存在的金属腐蚀及团聚、分层等问题，对环境无污染。
2	一种环保型深度清洁液体鞋油的生产工艺	CN202410017350.2	2024-01-05	CN117866537A	2024-04-12	吴群; 柯玉平; 王星
本发明公开了一种环保型深度清洁液体鞋油的生产工艺，包括石蜡、虫胶、松节油、羊毛脂、防腐剂、防霉剂、防冻剂、石蜡乳化剂、杀菌剂、表面活性剂、油溶性染料、香精、软化剂、去离子水。本发明的鞋油采用防腐剂可以有效避免鞋油对皮鞋造成伤害，采用防霉剂可以避免擦拭后的皮鞋长霉，采用防冻剂可以在冬季使用的时候耐寒耐冻，增加杀菌剂可以抑制鞋油滋生细菌，提高鞋油使用寿命，本发明的鞋油采用虫胶使得皮鞋擦拭过后更加柔软和坚韧，还增加了香精，让鞋油带有香味，擦拭过皮鞋后让鞋子带有香味，增加鞋子的附加价值，该鞋油具有增亮、滋养、不褪色、浅痕修复、无毒的性能，生产工艺简单，是环保型产品。
3	一种用于碳化硅衬底片CMP 抛光液的制备方法	CN202410023891.6	2024-01-08	CN117866536A	2024-04-12	宋伟红; 宋菁; 席啸林; 蔡庆东; 赵梦亦宋
本发明涉及碳化硅衬底片抛光工艺技术领域，具体为一种用于碳化硅衬底片CMP抛光液的制备方法；所述CMP抛光液由磨料1‑10％、分散稳定剂0.01‑5％、润湿分散剂0.001％‑0.1％、流变助剂0.1‑0.3％、抛光促进剂0.01‑5％、消泡剂0.01‑0.1％、有机溶剂1‑10％、氧化剂0.5‑5％和pH调节剂组成，余量为去离子水，制备过程将原料按顺序依次加入去离子水中，高速搅拌至均匀混合，室温下陈化10～20分钟，重启搅拌至形成均匀流体浆料，即得碳化硅衬底片CMP抛光液；发明提出一种用于碳化硅衬底片CMP抛光液的制备方法，采用稀土氧化物氧化铈磨料、专有的配方和环保原料，解决了上述工艺中出现的，磨料打磨效率低、易造成划痕，料浆的悬浮稳定性和抛光稳定性较弱，配方不够环保等问题。
4	一种高纯有机铝改性酸性硅溶胶及其制备方法和应用	CN202210984652.8	2022-08-17	CN115403050B	2024-04-12	周海耀; 韩婷婷; 祁琦
本发明公开了一种高纯有机铝改性酸性硅溶胶及其制备方法和应用，常温下有机铝改性剂溶解在体系溶剂中，再加入硅源，得到硅源溶液；体系溶剂加入到四口烧瓶中；有机碱溶液稀释得碱溶液；在搅拌和15–50℃的条件下硅源溶液和碱溶液同步滴加至四口烧瓶中，滴加完毕后继续搅拌，陈化24–72小时后浓缩，用有机酸调节pH至2–4，得到高纯有机铝改性酸性硅溶胶。本发明采用有机铝改性剂、硅源的混合滴加和碱催化的方式，使用Stober法可以快速制备不同粒径均匀稳定分布的高纯有机铝改性酸性硅溶胶，稳定性好，可以稳定存放1年之久，铜离子含量可控制在50ppb以下，不会产生大量酸水，工艺简单，易于大规模生产。
5	一种化学机械抛光液	CN201911320533.7	2019-12-19	CN113004797B	2024-04-12	李守田; 任晓明; 贾长征
本发明提供一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包含水、氧化铈、聚季氨盐、含苯环的羧酸、以及聚乙烯胺。只有聚季氨盐、含苯环的羧酸、聚乙烯胺三者一起使用，才会实现真正意义的自动停止功能，在空白片具有较低的抛光速率，而在图案化硅片的高的台阶高度时保持高的抛光速率，台阶高度越低时抛光速度抑制得越好，从而实现自动停止的功能。
6	一种用于树脂镜片的氧化铝抛光液的制备方法	CN202311841075.8	2023-12-28	CN117801683A	2024-04-02	宋伟红; 赵梦亦宋; 宋建伟; 宋维涛; 蔡庆东
本发明涉及树脂镜片的抛光工艺的技术领域，具体为一种用于树脂镜片的氧化铝抛光液的制备方法；所述氧化铝抛光液由磨料5‑30％，分散稳定剂0.01‑5％，pH调节剂0.5‑1.5％，流变助剂0.1‑3％，有机溶剂0.1‑10％，无机盐0.1‑10％，消泡剂0.01‑0.1％组成，余量为去离子水，制备过程将原料按顺序依次加入去离子水中，高速搅拌至充分均匀混合，过程中调节pH值后即得该氧化铝抛光液；本发明揭示的一种用于树脂镜片抛光液的制备方法，采用一定比例的特种复合氧化铝磨料，结合特定功能助剂，可以提升抛光效率，改善浆料流变性，使浆料的悬浮稳定性增强，且安全环保，可以广泛应用于各种树脂镜片的抛光。
7	钙钛矿单晶的抛光方法及其应用	CN202311773624.2	2023-12-21	CN117794341A	2024-03-29	李嘉仪; 杨亚洲; 叶正澜; 左玉华; 郑军; 刘智; 成步文
本公开提供了一种钙钛矿单晶的抛光方法及其应用，其中，该抛光方法包括：配制多组以溶剂‑反溶剂体系溶解钙钛矿的饱和溶液，其中多组饱和溶液中反溶剂的浓度呈由低到高的梯度分布；采用多组饱和溶液依次对以溶液法制备的钙钛矿单晶进行预处理，得到预处理后的钙钛矿单晶；在第一抛光液作用下对预处理后的钙钛矿单晶进行第一抛光处理，得到第一抛光处理后的钙钛矿单晶；在第二抛光液作用下对第一抛光处理后的钙钛矿单晶进行第二抛光处理，得到第二抛光处理后的钙钛矿单晶。
8	一种抛光碳化硅的氧化铝/氧化硅复合磨料和抛光液及制备方法和用途	CN202311783266.3	2023-12-22	CN117777950A	2024-03-29	邵枫萍; 杨希; 王义浩
本申请涉及一种抛光碳化硅的氧化铝/氧化硅复合磨料和抛光液及制备方法和用途。本发明提供的一种抛光碳化硅的氧化铝/氧化硅复合磨料，其包括Al2O3/SiO2复合磨粒，其中Al2O3和SiO2之间具有静电吸附作用。通过静电自组装的方法制备得到所述Al2O3/SiO2复合磨粒；使用阳离子型聚电解质，将Al2O3颗粒进行改性，再基于静电吸附作用制备得到Al2O3/SiO2复合磨粒。本发明把带负电的SiO2颗粒粘附在带正电的α‑Al2O3颗粒表面，通过静电吸引形成Al2O3/SiO2复合磨料。相应地，复合磨料悬浮性更好。另外，本发明利用碱性条件SiO2悬浮液稳定性较好的特征，弥补后续抛光液配液过程中添加剂对氧化铝悬浮液稳定性的影响。
9	一种纳米氧化铝复合磨粒的制备方法及应用	CN202211348241.6	2022-10-31	CN115651608B	2024-03-26	雷红; 胡晓刚; 陈怡; 雷逸凡; 杨小强; 周代圆
本发明公开了一种纳米氧化铝复合磨粒的制备方法及在精密抛光中的应用。本发明的制备方法是，先采用环氧氯丙烷对纳米氧化铝粒子进行表面改性，水解后引入羟基；进而采用异构葵醇聚氧乙烯单磷酸酯与氧化铝表面羟基发生酯化反应，经后处理后得到异构葵醇聚氧乙烯磷酸酯改性的纳米氧化铝复合磨粒。与氧化铝磨粒相比，该复合磨粒配制成的抛光液分散稳定性好，用于不锈钢元件的表面精密抛光，可明显降低表面的粗糙度，有效减轻氧化铝粒子在不锈钢表面抛光加工中的机械损伤、腐蚀点(Pit)等抛光缺陷。
10	用于降低硅片表面腐蚀的抛光液及其制备和使用方法	CN202210906357.0	2022-07-29	CN115260912B	2024-03-26	雷双双; 王辰伟; 张俊华; 井锋; 井康
本发明涉及化学机械抛光领域，尤其是涉及一种用于降低硅片表面化学腐蚀的抛光液及其制备和使用方法。抛光液包括如下组分：硅溶胶；腐蚀抑制剂；金属螯合剂；pH调节剂，杀菌剂和去离子水；各组分的质量浓度为：硅溶胶含量为60‑75％；杀菌剂的浓度为0.2‑1.0％；金属螯合剂的浓度为0.5‑1.0％；抛光液的pH值为10‑12；本发明的硅片中抛液可以有效抑制硅片表面的腐蚀，能够有效解决硅片CMP后存在的烧结问题，并获得无雾缺陷、无划伤、无金属杂质沾污的表面。
11	一种加工钛合金表面的等离子体电化学机械抛光液及其应用	CN202311742120.4	2023-12-18	CN117737816A	2024-03-22	刘进伟; 余德平; 张鹏
本申请涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种加工钛合金表面的等离子体电化学机械抛光液及其应用，抛光液包括以下组分：0.01~40wt%的研磨颗粒、0.01~20wt%的络合剂，pH值调节剂，余量为去离子水；所述pH值调节剂用于调节抛光液的pH值为2~10；本发明的抛光液需要在外加电场作用下，将抛光液成分电离为等离子体，使得低能量密度的氧化络合作用转变为高能量密度的氧化络合作用，以此产生钛合金表面自钝化阻断效应，从而提高钛合金表面抛光加工效率。
12	一种锑化镓晶片的抛光方法及所制备的锑化镓抛光片	CN202410190646.4	2024-02-21	CN117733719A	2024-03-22	王文乾; 孙占帅; 刘泳沣
本发明提供一种锑化镓晶片的抛光方法及所制备的锑化镓抛光片，一种锑化镓晶片的抛光方法包括如下步骤：（1）对锑化镓晶片进行减薄，去除锑化镓晶片表面的损伤与高点等不平整区域；（2）对步骤（1）减薄后的锑化镓晶片采用抛光布配合中抛抛光液进行中抛；中抛抛光液按质量百分比计包括：氧化铝磨料5～20％，含氯氧化剂1～5％，余量为水。本发明提供了一种新的锑化镓晶片的抛光方法。通过减薄结合中抛光的工艺路线实现对锑化镓晶片的抛光。
13	一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液及其制备方法	CN202211588554.9	2022-12-12	CN115746789B	2024-03-22	徐明艳; 代克; 李玄峰; 豁国燕; 王艳; 郝素叶; 韩少星
本发明涉及一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液，其由下述重量份数的原料组成：金刚石微粉0.5‑15份，密度调节剂1‑50份，悬浮剂0.01‑10份，流动性调节剂0.1‑5份，粘度调节剂0.1‑5份，润滑剂1‑50份，消泡剂0.0001‑0.5份，水10‑90份。相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液，本发明产品具有更好的产品品质观感；将其应用于研磨加工时性能稳定，有更好的加工效率和加工表面质量；应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。
14	用作化学机械平面化浆料的添加剂的鏻基聚合物和共聚物	CN202280050057.5	2022-06-03	CN117730107A	2024-03-19	G·拉比格; I·达维迪; M·斯腾德; 史晓波
公开了鏻基聚合物的合成。化学机械平面化(CMP)浆料包含研磨剂；活化剂；氧化剂；包含鏻基聚合物的添加剂；和水。在CMP浆料中使用合成的鏻基聚合物减少了高选择性钨浆料中的凹陷和腐蚀。
15	一种用于氧化镓的化学机械抛光液及抛光方法	CN202311732738.2	2023-12-15	CN117720858A	2024-03-19	张松源; 朱逸军; 刘江华
本发明提供了一种用于氧化镓的化学机械抛光液及抛光方法，抛光液包括研磨颗粒；至少一种提供金属阳离子的金属盐，所述金属阳离子选自Na+、K+、Ca2+和Mg2+中的一种或多种；和水。本发明采用特定种类的金属盐添加至抛光液中对氧化镓进行研磨，能够提供较快的去除速率和较低的表面粗糙度；还对晶片表面亲水性有较大改善，进而提升衬底晶片的加工效率和质量。实验结果表明：抛光后的氧化镓基板的接触角为23.3°～42.2°；抛光速度达到1587～4421nm/h，表面粗糙度为0.103～0.641nm。
16	一种用于处理钛合金的抛光液及其制备方法	CN202210807713.3	2022-07-11	CN115198276B	2024-03-19	汤庭滨; 肖亚辉; 黄灿容; 马楠楠; 李光; 侯康生
本申请涉及金属抛光剂领域，具体公开了一种用于处理钛合金的抛光液及其制备方法；所述用于处理钛合金的抛光液包含以下原料制成：磨料、磨料改性剂、氧化剂、助氧化剂、pH调节剂、去离子水；所述磨料改性剂为钛酸酯偶联剂；其制备方法为包括以下步骤：称取所述原料备用；磨料改性；原料搅拌混合；调节抛光液pH值；得到所述抛光液。本申请的抛光液可用于钛合金精密抛光，其具有抛光效率高、高表面质量、悬浮性好、分散性、好使用寿命长、无腐蚀优点；另外，本申请的制备方法具有工艺简单、成本低，适合批量生产的优点。
17	适用于集成电路铜互连结构化学机械抛光的抛光组合物及其应用	CN202211068849.3	2022-09-02	CN117683467A	2024-03-12	李国庆; 卞鹏程; 王庆伟; 崔晓坤; 王瑞芹; 徐贺; 王永东; 卫旻嵩
本发明公开了一种适用于集成电路制造中铜互连结构化学机械抛光的抛光组合物及其应用，所述化学机械抛光组合物包括研磨离子、氧化剂、络合剂、腐蚀抑制剂、骨架和侧链分别为聚甲基丙烯酰胺和两性化合物的聚合物、pH调节剂、任选的非离子聚合物和去离子水。本发明的抛光组合物中所述骨架和侧链分别为聚甲基丙烯酰胺和两性化合物的聚合物，可以作用于被抛光的材料表面，减小金属互连结构的抛光凹陷。
18	一种用于玻璃晶圆的化学机械抛光液及其制备方法和应用	CN202210651715.8	2022-06-09	CN115011254B	2024-03-12	宋伟红; 蔡庆东; 柏旭青; 宋菁
本发明公开了一种用于玻璃晶圆的化学机械抛光液及其制备方法和应用，属于玻璃晶圆抛光技术领域。该抛光液通过纳米级磨料颗粒对玻璃晶圆表面的修饰作用，达到原子级的粗糙度(0.1‑0.2nm)，平整度可达#imgabs0#采用润湿分散剂阻止纳米级磨料颗粒的团聚，避免抛光过程中产生微划伤，影响粗糙度。采用螯合剂和助洗剂，能够有效去除抛光过程中产生的颗粒物残留和有机物残留。采用复合润滑分散剂和润滑保湿剂组分，确保抛光过程中不产生结晶，保证浆料的均匀分布，保证抛光表面的平整度和光洁度。适用于各种尺寸的玻璃晶圆超光滑抛光，表面透光度高，无划伤，无雾面，可以满足先进制程的汽车芯片对玻璃衬底表面质量的要求。
19	抛光浆料组合物	CN202111255611.7	2021-10-27	CN114479673B	2024-03-12	黄珍淑; 孔铉九; 李恩珍
本发明涉及一种抛光浆料组合物，更具体地，涉及一种抛光浆料组合物，其包括抛光粒子；氧化剂；含铁催化剂；以及稳定化剂，并且根据下式1，所述氧化剂的残留率为70％以上：[式1]氧化剂的残留率(％)＝(室温7天后氧化剂的浓度(％)x100)/(抛光浆料组合物中氧化剂的初始浓度(％))。
20	一种化学机械抛光液	CN201911327408.9	2019-12-20	CN113004801B	2024-03-12	郁夏盈; 王晨; 何华锋; 李星; 史经深; 孙金涛
本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、含有腺嘌呤有机酸结构的腐蚀抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。不仅可以同时抛光金属钨、氧化硅，实现对钨金属保持较高的抛光速率、且对氧化硅保持中等的抛光速率、且高效抑制钨金属的静态腐蚀，改善抛光后的金属表面状况。

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