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1. 发明专利

TWI645030B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI645030B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106114759
申请日：2017-05-04
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 灘原壮一 , NADAHARA, SOICHI , 上田大 , UEDA, DAI , 北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI , 奧村勝弥 , OKUMURA, KATSUYA
IPC分类号： C11D7/30 , C11D7/26 , C11D11/00 , B08B3/08 , H01L21/67 , H01L21/02

2. 发明专利

TW201727813A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201727813A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105141210
申请日：2016-12-13
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川廣明 , KITAGAWA, HIROAKI , 上田大 , UEDA, DAI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/68 , G02F1/135 , G02F1/1333 , B08B3/02
CPC分类号： F25B21/02 , B05D3/10 , B08B7/0014 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/68764
摘要：本發明具備有：基板保持部，其保持將附著有凝固對象液之表面朝向上方之水平姿勢之基板；旋轉部，其使被保持於冷氣基板保持部之冷氣基板繞鉛垂軸旋轉；第1凝固部，其於第1位置將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之液體冷媒供給至冷氣基板之背面而使冷氣凝固對象液凝固；及第2凝固部，其藉由第1冷卻機構及第2冷卻機構中的至少一者來使冷氣凝固對象液凝固，該第1冷卻機構係於自冷氣基板之旋轉中心相較冷氣第1位置更朝徑向離開之第2位置，將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之氣體冷媒朝向冷氣基板供給而進行冷卻，該第2冷卻機構係於冷氣第2位置將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之處理面接液於冷氣凝固對象液而進行冷卻；且冷氣基板藉由與冷氣旋轉部所進行之旋轉同步地，藉由冷氣第1凝固部及冷氣第2凝固部使冷氣凝固對象液凝固。
简体摘要：本发明具备有：基板保持部，其保持将附着有凝固对象液之表面朝向上方之水平姿势之基板；旋转部，其使被保持于冷气基板保持部之冷气基板绕铅垂轴旋转；第1凝固部，其于第1位置将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之液体冷媒供给至冷气基板之背面而使冷气凝固对象液凝固；及第2凝固部，其借由第1冷却机构及第2冷却机构中的至少一者来使冷气凝固对象液凝固，该第1冷却机构系于自冷气基板之旋转中心相较冷气第1位置更朝径向离开之第2位置，将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之气体冷媒朝向冷气基板供给而进行冷却，该第2冷却机构系于冷气第2位置将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之处理面接液于冷气凝固对象液而进行冷却；且冷气基板借由与冷气旋转部所进行之旋转同步地，借由冷气第1凝固部及冷气第2凝固部使冷气凝固对象液凝固。

3. 发明专利

TW201811995A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201811995A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106114759
申请日：2017-05-04
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 灘原壮一 , NADAHARA, SOICHI , 上田大 , UEDA, DAI , 北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI , 奧村勝弥 , OKUMURA, KATSUYA
IPC分类号： C11D7/30 , C11D7/26 , C11D11/00 , B08B3/08 , H01L21/67 , H01L21/02
摘要：本發明係一種基板處理裝置，其特徵在於：具備對基板W之圖案形成面供給含有熔解狀態之昇華性物質之處理液的供給機構、使上述處理液於上述形成面上凝固而形成凝固體的凝固機構、使上述凝固體昇華而自上述形成面去除的昇華機構，並且上述昇華性物質含有氟碳化合物。
简体摘要：本发明系一种基板处理设备，其特征在于：具备对基板W之图案形成面供给含有熔解状态之升华性物质之处理液的供给机构、使上述处理液于上述形成面上凝固而形成凝固体的凝固机构、使上述凝固体升华而自上述形成面去除的升华机构，并且上述升华性物质含有氟碳化合物。

4. 发明专利

TWI690989B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI690989B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW108104885
申请日：2019-02-14
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：上田大 , UEDA, DAI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/304

5. 发明专利

TWI611502B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI611502B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW105141210
申请日：2016-12-13
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川廣明 , KITAGAWA, HIROAKI , 上田大 , UEDA, DAI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/68 , G02F1/135 , G02F1/1333 , B08B3/02
CPC分类号： F25B21/02 , B05D3/10 , B08B7/0014 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/68764

6. 发明专利

TWI489533B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI489533B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW101134351
申请日：2012-09-19
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川廣明 , KITAGAWA, HIROAKI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B1/00 , B08B1/001 , B08B1/008 , H01L21/304 , H01L21/67132

7. 发明专利

TW201703884A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201703884A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105109259
申请日：2016-03-24
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： B08B3/10 , B08B7/00 , H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： B08B3/10 , B08B7/0014 , B08B7/0092 , H01L21/02041 , H01L21/02052 , H01L21/67028 , H01L21/6704 , H01L21/67109
摘要：本發明提供一種低成本且高效率地於基板之表面形成凝固體之方法。使用冷卻構件使形成於水平姿勢之基板之上表面之凝固對象液之液膜凝固而形成凝固體之凝固體形成步驟具有：第1步驟，其使冷卻構件中溫度低於凝固對象液之凝固點之處理面觸液於液膜而使位於夾於上表面與處理面之區域之凝固對象液凝固；及第2步驟，其將處理面自藉由第1步驟凝固之凝固區域剝離；且凝固區域與處理面之附著力小於凝固區域與上表面之附著力。
简体摘要：本发明提供一种低成本且高效率地于基板之表面形成凝固体之方法。使用冷却构件使形成于水平姿势之基板之上表面之凝固对象液之液膜凝固而形成凝固体之凝固体形成步骤具有：第1步骤，其使冷却构件中温度低于凝固对象液之凝固点之处理面触液于液膜而使位于夹于上表面与处理面之区域之凝固对象液凝固；及第2步骤，其将处理面自借由第1步骤凝固之凝固区域剥离；且凝固区域与处理面之附着力小于凝固区域与上表面之附着力。

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