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一种硅片夹持装置

阅读：167发布：2020-05-12

IPRDB可以提供一种硅片夹持装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明提供一种硅片夹持装置，涉及半导体清洗领域，该装置包括：夹持主体，用于夹持工件；固定部，位于夹持主体下端，用于固定被夹持的工件，固定部和夹持主体围成一用于容纳工件的夹持空间；盖板结构，设置于夹持主体上端，且位于夹持空间上方。本发明实施例有效解决了硅片清洗工艺的运输过程中，由于水分挥发导致硅片表面清洗用化学品的浓度增加，从而影响硅片的表面质量的问题。，下面是一种硅片夹持装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种硅片夹持装置，其特征在于，包括：

夹持主体，用于夹持工件；

固定部，位于所述夹持主体下端，用于固定被夹持的所述工件，所述固定部和所述夹持主体围成一用于容纳所述工件的夹持空间；

盖板结构，设置于所述夹持主体上端，且位于所述夹持空间上方。

2.根据权利要求1所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述盖板结构具有中部高边缘低的上表面。

3.根据权利要求2所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述盖板结构包括多个盖板，所述多个盖板围成所述盖板结构，其中，至少部分所述盖板倾斜设置。

4.根据权利要求3所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述盖板结构包括：第一倾斜盖板和第二倾斜盖板，所述第一倾斜盖板和所述第二倾斜盖板搭接形成倒V状结构；

设置在所述倒V状结构两侧的侧盖板，所述侧盖板、所述第一倾斜盖板和所述第二倾斜盖板围成所述盖板结构。

5.根据权利要求4所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述侧盖板中包括多个第一子挡板，相邻的所述第一子挡板之间具有间隙。

6.根据权利要求1所述的硅片夹持装置，其特征在于，还包括侧围板结构，设置在所述夹持主体上，位于所述盖板结构的下方，且与所述盖板结构之间有间隙，所述侧围板结构能够包围部分所述夹持空间。

7.根据权利要求6所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述侧围板结构和所述盖板结构之间的间隙为5-15mm。

8.根据权利要求6所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述侧围板结构的上沿高于或等于所述夹持空间的上沿。

9.根据权利要求6所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述侧围板结构包括设置于所述夹持主体外表面的第一侧围板，第二侧围板，第三侧围板和第四侧围板。

10.根据权利要求9所述的硅片夹持装置，其特征在于，所述第一侧围板，所述第二侧围板、所述第三侧围板和所述第四侧围板中的至少一项包括至少两个第二子挡板。

说明书全文

一种硅片夹持装置

技术领域

[0001] 本发明涉及半导体清洗领域，尤其涉及一种硅片夹持装置。

背景技术

[0002] 硅片的清洗工艺是半导体元件生产中的重要工序，在清洗工艺的过程中，包括化学品清洗，超纯水冲洗以及烘干等步骤，在各步骤之间使用硅片夹持装置运输硅片。随着半导体元件的日益精细化，对硅片清洗过程的要求也日益提高，然而，在清洗时硅片夹持装置运输硅片的过程中，硅片表面会出现水分的挥发，导致硅片表面清洗用化学品的局部浓度增加，硅片表面的物质以及形态发生变化，从而引起硅片表面的质量下降。

发明内容

[0003] 有鉴于此，本发明提供一种硅片夹持装置，用于解决运输过程中硅片表面的水分挥发过多，导致硅片表面质量下降的问题。

[0004] 为解决上述技术问题，本发明提供一种硅片夹持装置，包括：

[0005] 夹持主体，用于夹持工件；

[0006] 固定部，位于所述夹持主体下端，用于固定被夹持的所述工件，所述固定部和所述夹持主体围成一用于容纳所述工件的夹持空间；

[0007] 盖板结构，设置于所述夹持主体上端，且位于所述夹持空间上方。

[0008] 可选的，所述盖板结构具有中部高边缘低的上表面。

[0009] 可选的，所述盖板结构包括多个盖板，所述多个盖板围成所述盖板结构，其中，至少部分所述盖板倾斜设置。

[0010] 可选的，所述盖板结构包括：

[0011] 第一倾斜盖板和第二倾斜盖板，所述第一倾斜盖板和所述第二倾斜盖板搭接形成倒V状结构；

[0012] 设置在所述倒V状结构两侧的侧盖板，所述侧盖板、所述第一倾斜盖板和所述第二倾斜盖板围成所述盖板结构。

[0013] 可选的，所述侧盖板中包括多个第一子挡板，相邻的所述第一子挡板之间具有间隙。

[0014] 可选的，所述硅片夹持装置还包括侧围板结构，设置在所述夹持主体上，位于所述盖板结构的下方，且与所述盖板结构之间有间隙，所述侧围板结构能够包围部分所述夹持空间。

[0015] 可选的，所述侧围板结构和所述盖板结构之间的间隙为5-15mm。

[0016] 可选的，所述侧围板结构的上沿高于或等于所述夹持空间的上沿。

[0017] 可选的，所述侧围板结构包括设置于所述夹持主体外表面的第一侧围板，第二侧围板，第三侧围板和第四侧围板。

[0018] 可选的，所述第一侧围板，所述第二侧围板、所述第三侧围板和所述第四侧围板中的至少一项包括多个第二子挡板。

[0019] 本发明的上述技术方案的有益效果如下：提出了一种带挡板的硅片夹持装置，通过盖板结构阻挡清洗机由上向下的气体，减少工件表面的空气流通，从而降低工件表面水分挥发的速度，同时通过侧围板结构为工件创造湿润环境，阻挡工件周围水分的挥发，最终达到保持清洗用化学品在工件表面的局部浓度的目的，提高了工件的清洗质量。

附图说明

[0020] 图1为本发明一实施例中的硅片夹持装置的结构正视图；

[0021] 图2为本发明一实施例中的硅片夹持装置的结构侧视图；

[0022] 图3为清洗时使用现有技术中的硅片夹持装置运输的硅片的表面成分图；

[0023] 图4为清洗时使用本发明实施例中的硅片夹持装置运输的硅片的表面成分图。

具体实施方式

[0024] 为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0025] 请参考图1和图2，图1为本发明一实施例中的硅片夹持装置的结构正视图，图2为本发明一实施例中的硅片夹持装置的结构侧视图，所述硅片夹持装置包括：

[0026] 夹持主体101，用于夹持工件；

[0027] 固定部102，位于所述夹持主体101下端，用于固定被夹持的所述工件，所述固定部102和所述夹持主体101围成一用于容纳所述工件的夹持空间；

[0028] 盖板结构103，设置于所述夹持主体101上端，且位于所述夹持空间上方；

[0029] 其中，所述硅片夹持装置可以是机械手臂，也可以是其它具有夹持运输功能的装置；

[0030] 其中，所述夹持主体101包括左夹持主体和右夹持主体；

[0031] 其中，所述盖板结构103的材质有不与清洗用化学品发生反应的特性，并且不分解、不脱落，因此可以在洁净室内使用。

[0032] 本发明的上述实施例中，提出了一种安装有盖板结构的硅片夹持装置，利用盖板结构阻挡硅片夹持装置上方过滤器吹来的风，从而减弱工件表面的水分挥发，保持工件表面清洗用化学品的浓度，提高工件的清洗质量。

[0033] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述盖板结构103具有中部高边缘低的上表面。

[0034] 本发明的上述实施例中，盖板结构的上表面中部高，边缘低，在清洗工件的过程中，盖板结构上方的液体可以沿着盖板结构流下，避免化学试剂滴落到硅片表面造成污染。

[0035] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述盖板结构103包括多个盖板，所述多个盖板围成所述盖板结构，其中，至少部分所述盖板倾斜设置，以形成中部高边缘低的上表面。

[0036] 本发明的上述实施例中，盖板结构由多个盖板组成，便于盖板结构的安装和拆卸，同时降低了盖板结构的制作难度。

[0037] 在本发明的一些实施例中，可选的，如图1和图2所示，所述盖板结构103包括：

[0038] 第一倾斜盖板1031和第二倾斜盖板1032，所述第一倾斜盖板1031和所述第二倾斜盖板1032搭接形成倒V状结构；

[0039] 设置在所述倒V状结构两侧的侧盖板1033，所述侧盖板1033、所述第一倾斜盖板1031和所述第二倾斜盖板1032围成所述盖板结构；

[0040] 其中，所述侧盖板1033的上沿与第一倾斜盖板1031的边缘以及第二倾斜盖板1032的边缘相接，如图1所示，所述侧盖板1033可以是三角形盖板，也可以是其他形状的盖板。

[0041] 本发明的上述实施例中，通过四面盖板围成盖板结构，阻挡了硅片夹持装置上方的风，同时也避免了化学试剂滴落在工件上，从而使硅片表面不受到污染，保证了清洗后的工件的质量。

[0042] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述侧盖板包括多个第一子挡板，相邻的所述第一子挡板之间具有间隙；

[0043] 其中，所述倒V状结构两侧的侧盖板1033可以分别包括不同数量的第一子挡板，也可以包括相同数量的第一子挡板。

[0044] 本发明的上述实施例中，用多个第一子挡板组成侧盖板，便于侧盖板的安装和拆卸，同时在第一子挡板之间留出空隙，保证有少量清洗机过滤器中的风可以吹到盖板结构，保持盖板结构的洁净。

[0045] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述硅片夹持装置还包括侧围板结构104，设置在所述夹持主体101上，位于所述盖板结构103的下方，且与所述盖板结构103之间有间隙，所述侧围板结构104能够包围部分所述夹持空间。

[0046] 本发明的上述实施例中，通过侧围板结构阻碍工件周围空间的水分蒸发，为工件创造湿润环境，从而降低工件表面的水分蒸发速度，保持工件表面清洗用化学品的浓度。

[0047] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述侧围板结构104和所述盖板结构103之间的间隙为5-15mm。

[0048] 本发明的上述实施例中，在侧围板结构和盖板结构之间留出较小的间隙，使得部分清洗机过滤器的风可以通过，保证夹持空间的洁净，同时保持工件周围的湿润环境。

[0049] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述侧围板结构104的上沿高于或等于所述夹持空间的上沿；

[0050] 其中，所述侧围板结构104的下沿不超过所述夹持主体101与所述固定部102的连接处。

[0051] 本发明的上述实施例中，工件表面的水分由于重力作用向下流，因此工件的上半部分湿润环境较差，设置侧围板结构的上沿高于夹持空间的上沿，能够有效地保护工件上端的湿润环境。

[0052] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述侧围板结构104包括第一侧围板1041，第二侧围板1042，第三侧围板和第四侧围板，所述第一侧围板1041，所述第二侧围板1042，所述第三侧围板和所述第四侧围板设置于所述夹持主体的外表面；

[0053] 其中，所述第一侧围板1041，所述第二侧围板1042，所述第三侧围板和所述第四侧围板可以是正方形侧围板，也可以是其它形状的侧围板。

[0054] 本发明的上述实施例中，通过四面侧围板围成侧围板结构，以保持工件周围的湿润环境，从而降低工件表面的水分蒸发速度，保持工件表面清洗用化学品的浓度。

[0055] 在本发明的一些实施例中，可选的，所述第一侧围板，所述第二侧围板、所述第三侧围板和所述第四侧围板中的至少一项包括至少两个第二子挡板。

[0056] 本发明的上述实施例中，使用多个第二子挡板构成侧围板，便于侧围板结构的安装和拆卸。

[0057] 请参考图3和图4，图3为清洗时使用现有技术中的硅片夹持装置运输的硅片的表面成分图，图4为清洗时使用本发明实施例中的硅片夹持装置运输的硅片的表面成分图，图中白色部分为残留在硅片表面上的清洗用化学试剂，对比图3和图4可以看出，图4中的硅片表面残留的化学试剂剂量少于图3中的硅片表面残留的化学试剂剂量，因此在本发明的上述实施例中，通过在硅片夹持装置上设置盖板结构和侧围板结构，能够有效地降低工件表面水分的挥发程度，保证工件表面的化学试剂处于一定的浓度区间内，提高工件的清洗质量。

[0058] 以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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