1.一种肟磺酸酯类光产酸剂，具有如下通式(I)所示结构：
其中，
R1表示C1‑C20的直链状或支链状的烷基、C3‑C20的环烷基、C1‑C20的直链状或支链状的氟代烷基、C3‑C20的氟代环烷基、C6‑C18的取代或未取代的芳基、樟脑基、樟脑醌基或叠氮萘酮基团；
R2与R2’可相同，也可不同，各自独立地选自下列基团：氢，卤素，C1‑C20的直链状或支链状的烷基，C3‑C20的环烷基，C2‑C20的直链状或支链状的链烯基，C2‑C20的直链状或支链状的炔基，C1‑C20的直链状或支链状的烷氧基，C1‑C20的直链状或支链状的烷硫基，C1‑C20的直链状或支链状的卤代烷基，C1‑C20的直链状或支链状的羟基取代烷基，C2‑C20的直链状或支链状的羟基烷氧基取代烷基，被C6‑C10的芳基或芳氧基取代的C1‑C20烷基，被1个以上的‑O‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C2‑C20的直链状或支链状的烷基或烷氧基，取代或未取代的C6‑C10芳基，C6‑C20的芳基硫基，含有N、O和/或S的C2‑C20的杂环基团；或者R2，R2’彼此相连以形成环；
R3选自下列基团：
R4表示：C1‑C20的直链状或支链状的烷基或卤代烷基；被1个以上的‑O‑、‑CO‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C2‑C20的直链状或支链状的烷基或卤代烷基；C3‑C20的环烷基；
(C6～C20)芳基(C1～C10)烷基，任选地，C6～C20芳基中的至少一个氢可被C1～C6的烷基所取代；C1～C10的烷氧基取代的C6～C20芳基，任选地，所述(C1～C10)烷氧基中的‑CH2‑可被‑O‑、‑CO‑所取代；C2‑C20的直链状或支链状的炔基；C2‑C20的直链状或支链状的链烯基或环状烯基；含有N、O和/或S的C2‑C20的脂环族或芳香族杂环基团，任选地，脂环族或芳香族杂环基团上的至少一个氢可被C1‑C20的直链状或支链状的烷基或氯代烷基、C3‑C20的环烷基、酰基、C2‑C20的直链状或支链状的炔基所取代；C6‑C30芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C10的直链状或支链状的烷基、C1‑C10的直链状或支链状的卤代烷氧基、C6‑C12的芳基所取代；
R5表示：C1‑C20的直链状或支链状的烷基；C3‑C20的环烷基，任选地，环烷基中的
氢原子可被C1‑C6烷基所取代；被1个以上的‑O‑、‑CO‑中断的C2‑C20的直链状或支链状的烷基；C6‑C30芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C10的直链或支链烷基、卤素、C1‑C10的直链或支链卤代烷氧基、C6‑C12的芳基所取代；C2‑C20的直链状或支链状的炔基；(C6～C20)芳基(C1～C10)烷基，任选地，C6～C20的芳基中的至少一个氢可被C1～C6的烷基或C1～C10的烷氧基所取代，(C1～C10)烷基中的‑CH2‑可被‑O‑、‑CO‑所取代；C2‑C20的直链状或支链状的链烯基；
含有N、O和/或S的C2‑C20的脂环族或芳香族杂环基团，任选地，脂环族或芳香族杂环基团上的至少一个氢可被C1‑C20的直链状或支链状的烷基、被1个以上的‑O‑、‑CO‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C1‑C20的直链状或支链状的烷基、C3‑C20的环烷基、C2‑C20的直链状或支链状的链烯基，C2‑C20的直链状或支链状的炔基所取代；
R6、R6’可相同也可不同，各自独立地选自下列基团：氢；C1‑C20的直链状或支链
状的烷基；C7‑C30芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C10的直链或支链烷基、C1‑C10的直链或支链烷氧基、C6‑C12的芳基所取代；或者R6、R6’彼此相连以形成环。
2.根据权利要求1所述的肟磺酸酯类光产酸剂，其特征在于：R1表示C1‑C10的直链状或支链状的烷基、C3‑C10的环烷基、C1‑C8的直链状或支链状的氟代烷基、C3‑C10的氟代环烷基、氟代苯基、被C1‑C4的烷基或氟代烷基取代的苯基、樟脑基、樟脑醌基或叠氮萘酮基团。
3.根据权利要求1或2所述的肟磺酸酯类光产酸剂，其特征在于：R1表示C1‑C8的直链状或支链状的烷基、C1‑C8的直链状或支链状的全氟代烷基、全氟代苯基、被C1‑C4的烷基或全氟代烷基取代的苯基、樟脑基、樟脑醌基或叠氮萘酮基团。
4.根据权利要求1所述的肟磺酸酯类光产酸剂，其特征在于，R2与R2’可相同，也可不同，各自独立地选自下列基团：氢，C1‑C12的直链状或支链状的烷基，C3‑C12的环烷基，C2‑C12的直链状或支链状的链烯基，C2‑C12的直链状或支链状的炔基，C1‑C12的直链状或支链状的烷氧基，C1‑C12的直链状或支链状的烷硫基，被1个以上的‑O‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C2‑C12的直链状或支链状的烷基或烷氧基，未取代或被C1‑C4的烷基或烷氧基取代的C6‑C10芳基，C6‑C10芳基硫基，含有N、O和/或S的C4‑C10的杂环基团；或者R2与R2’彼此相连以形成五元环或六元环。
5.根据权利要求1或4所述的肟磺酸酯类光产酸剂，其特征在于，R2与R2’可相同，也可不同，各自独立地选自下列基团：氢，C1‑C8的直链状或支链状的烷基，C3‑C8的环烷基，C2‑C8的直链状或支链状的链烯基，C2‑C8的直链状或支链状的炔基，C1‑C8的直链状或支链状的烷氧基，C1‑C8的直链状或支链状的烷硫基，被1个以上的‑O‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C2‑C7的直链状或支链状的烷基或烷氧基，苯基，被C1‑C4的烷基或烷氧基取代的苯基，苯硫基，噻吩基，N‑吡咯基，吡啶基，吲哚基；或者R2与R2’彼此相连以形成五元环或六元环。
6.根据权利要求1所述的肟磺酸酯类光产酸剂，其特征在于，R3选自下列基团：
4表示：C1‑C10的直链状或支链状的烷基；C3‑C10的环烷基；被1个以上的‑O‑、‑CO‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C2‑C10的直链状或支链状的烷基；(C6～C10)芳基(C1～C4)烷基，任选地，C6～C10芳基中的至少一个氢可被C1～C4的烷基所取代；C1～C4的烷氧基取代的C6～C10芳基，任选地，所述(C1～C4)烷氧基中的‑CH2‑可被‑O‑、‑CO‑所取代；C2‑C10的直链状或支链状的链烯基；含有N、O和/或S的C2‑C9的脂环族杂环基团；以含有N、O和/或S的C2‑C9的脂环族杂环基团封端的C1～C4烷基；C6‑C10芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C4的直链状或支链状的烷基所取代；
R5表示：C1‑C10的直链状或支链状的烷基；C3‑C10的环烷基，任选地，环烷基中的
氢原子可被C1‑C4烷基所取代；被1个以上的‑O‑、‑CO‑中断的C2‑C10的直链状或支链状的烷基；C6‑C12芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C4的直链或支链烷基所取代；(C6～C10)芳基(C1～C4)烷基，任选地，C6～C10的芳基中的至少一个氢可被C1～C4的烷基或C1～C4的烷氧基所取代，(C1～C4)烷基中的‑CH2‑可被‑O‑、‑CO‑所取代；C2‑C10的直链状或支链状的链烯基；
含有N、O和/或S的C2‑C10的脂环族杂环基团，任选地，脂环族杂环基团上的至少一个氢可被C1‑C4的直链状或支链状的烷基、被1个以上的‑O‑、‑CO‑、‑S‑、‑O‑CO‑或‑CO‑O‑中断的C1‑C6的直链状或支链状的烷基所取代；
R6、R6’可相同也可不同，各自独立地选自下列基团：氢；C1‑C6的直链状或支链状
的烷基；C6‑C10芳基，任选地，芳基上的氢原子可被C1‑C6的直链或支链烷基、C6‑C12的芳基所取代；或者R6、R6’彼此相连以形成环。
7.权利要求1‑6任一项所述的肟磺酸酯类光产酸剂的制备方法，包括下列步骤：
(1)2,7‑二卤代芴在碱性条件下与R2X和或R2’X反应制得9、9’‑R2、R2’取代的芴化合物；
(2)步骤(1)的产物与R3YH或R3(R3’)NH在碱性条件下反应生成7‑R3取代的芴化合物,Y为O、S，R3’为氢或与R3相同；
(3)步骤(2)的产物在低温下与正丁基锂和硼酸三异丙酯反应生成2‑硼酸芴化合物；
(4)步骤(3)的产物在亚硝酸钠条件下，与氨基乙腈盐酸盐反应，生成2‑乙腈芴化合物；
(5)步骤(4)的产物与亚硝酸或亚硝酸烷基酯发生肟化反应，生成肟化合物；
(6)肟化合物与R1SO2X或(R1SO2)2O在碱性条件下于惰性溶剂中发生酯化反应，生成肟磺酸酯类光产酸剂；
反应流程如下所示：
其中，X表示卤素。
8.一种酸产生方法，其特征在于：对权利要求1‑6任一项所述的肟磺酸酯类光产酸剂照射活性能量射线。
9.根据权利要求8所述的酸产生方法，其特征在于：所述活性能量射线为近紫外光区
域、可见光区域的波长在300‑450nm之间的活性能量射线，特别优选的是波长385nm和405nm(H线)的活性能量射线。
10.权利要求1‑6任一项所述的肟磺酸酯类光产酸剂在制备抗蚀膜、液态抗蚀剂、负型抗蚀剂、正型抗蚀剂、MEMS用抗蚀剂、立体光刻和微立体光刻用材料中的应用。
11.一种抗蚀剂组合物，包括权利要求1‑6任一项所述的肟磺酸酯类光产酸剂。
12.权利要求11所述的抗蚀剂组合物的应用，包括将抗蚀剂组合物应用于电子组件的
保护膜、层间绝缘材料、图型转移材料的制备中。
13.一种电子组件，包含由权利要求11所述的抗蚀剂组合物制备而成的保护膜、层间绝缘材料或图型转移材料。