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新型硅片清洗液

阅读：1020发布：2020-07-09

IPRDB可以提供新型硅片清洗液专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份组成，以重量份数计。本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。，下面是新型硅片清洗液专利的具体信息内容。

权利要求

1.新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇

7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水 20-33份组成，以重量份数计。

2.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂27份、三羟乙基胺

8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。

3.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。

4.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。

5.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述水为去离子水。

说明书全文

新型硅片清洗液

技术领域

[0001] 本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型硅片清洗液。

背景技术

[0002] 随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越收到人们的关注，太阳能由于器无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也来越得以发展。而伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。

[0003] 清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。

发明内容

[0004] 本发明所要解决的技术问题是提供一种能将硅片清洗干净，使用简单的新型清洗液。

[0005] 为了解决上述技术问题，本发明新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水 20-33份组成，以重量份数计。

[0006] 上述新型硅片清洗液，其中，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。

[0007] 上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。

[0008] 上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。

[0009] 上述新型硅片清洗液，其中，所述水为去离子水。

[0010] 本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。

具体实施方式

[0011] 下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。

[0012] 实施例一新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。

[0013] 性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%实施例二

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