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1. 发明专利

TW201707075A 基板洗淨方法及基板洗淨裝置审中-公开
简体标题：基板洗净方法及基板洗净设备
公开(公告)号：TW201707075A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105115163
申请日：2016-05-17
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B08B3/12 , B08B3/00 , C11D11/0047 , C11D11/007 , H01L21/67051
摘要：本發明提供一種一邊防止圖案之毀壞及污染一邊良好地將於正面形成有圖案之基板之背面洗淨之基板洗淨方法及裝置。於將圖案之表面疏水化之後，於基板正面形成純水等之液膜。此時，藉由疏水化於圖案間不會進入液膜之液體，而存在氣體。於基板正面被液膜覆蓋之狀態下，向基板背面供給施加有超音波之液體，藉由超音波所引起之液體中之空穴化崩解能量，將基板背面洗淨。空穴化崩解亦會於基板正面發生，但由於在圖案間存在氣體，故於圖案間不會發生空穴化崩解，可防止圖案毀壞並且藉由液膜防止污染，從而能夠良好地將基板背面洗淨。
简体摘要：本发明提供一种一边防止图案之毁坏及污染一边良好地将于正面形成有图案之基板之背面洗净之基板洗净方法及设备。于将图案之表面疏水化之后，于基板正面形成纯水等之液膜。此时，借由疏水化于图案间不会进入液膜之液体，而存在气体。于基板正面被液膜覆盖之状态下，向基板背面供给施加有超音波之液体，借由超音波所引起之液体中之空穴化崩解能量，将基板背面洗净。空穴化崩解亦会于基板正面发生，但由于在图案间存在气体，故于图案间不会发生空穴化崩解，可防止图案毁坏并且借由液膜防止污染，从而能够良好地将基板背面洗净。

2. 发明专利

TWI632600B 基板洗淨方法及基板洗淨裝置有权
简体标题：基板洗净方法及基板洗净设备
公开(公告)号：TWI632600B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW105115163
申请日：2016-05-17
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/30

3. 发明专利

TW202030787A 基板乾燥方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板干燥方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202030787A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108138350
申请日：2019-10-24
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 井上一樹 , INOUE, KAZUKI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 奥谷学 , OKUTANI, MANABU , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/302 , F26B5/04
摘要：本發明確認至少基於圖案之高度設定之表示昇華性物質之濃度之範圍之設定濃度範圍。將包含昇華性物質與溶劑之原液貯存於原液貯槽內。將包含溶劑且昇華性物質之濃度低於原液中之昇華性物質之濃度之稀釋液於原液貯槽之外與原液混合，藉此，製作昇華性物質之濃度為設定濃度範圍內之乾燥前處理液。於基板之正面形成包含昇華性物質之固化膜。藉由使固化膜昇華而自基板之正面將固化膜去除。
简体摘要：本发明确认至少基于图案之高度设置之表示升华性物质之浓度之范围之设置浓度范围。将包含升华性物质与溶剂之原液贮存于原液贮槽内。将包含溶剂且升华性物质之浓度低于原液中之升华性物质之浓度之稀释液于原液贮槽之外与原液混合，借此，制作升华性物质之浓度为设置浓度范围内之干燥前处理液。于基板之正面形成包含升华性物质之固化膜。借由使固化膜升华而自基板之正面将固化膜去除。

4. 发明专利

TW201826341A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201826341A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106144716
申请日：2017-12-20
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 上田大 , UEDA, DAI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , F26B5/04
摘要：本發明提供一種可減少基板上之圖案之倒塌之基板處理方法及基板處理裝置。本發明之基板處理方法之特徵在於：包含對基板W之圖案形成面供給含有熔解狀態之昇華性物質之處理液的供給步驟S13、使上述處理液於上述圖案形成面上凝固而形成凝固體63的凝固步驟S14、使凝固體63昇華而自上述圖案形成面去除的昇華步驟S15、以及將凝固體63昇華時於昇華界面析出之有機物去除的有機物去除步驟S16、S17，且有機物去除步驟S16、S17與昇華步驟S15至少重疊進行。
简体摘要：本发明提供一种可减少基板上之图案之倒塌之基板处理方法及基板处理设备。本发明之基板处理方法之特征在于：包含对基板W之图案形成面供给含有熔解状态之升华性物质之处理液的供给步骤S13、使上述处理液于上述图案形成面上凝固而形成凝固体63的凝固步骤S14、使凝固体63升华而自上述图案形成面去除的升华步骤S15、以及将凝固体63升华时于升华界面析出之有机物去除的有机物去除步骤S16、S17，且有机物去除步骤S16、S17与升华步骤S15至少重叠进行。

5. 发明专利

TWI692807B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI692807B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW107133423
申请日：2018-09-21
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：奥谷学 , OKUTANI, MANABU , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 阿部博史 , ABE, HIROSHI , 前田主悅 , MAEDA, CHIKARA , 中井仁司 , NAKAI, HITOSHI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/302 , F26B5/02 , B08B3/04 , B08B11/00

6. 发明专利

TWI692604B 基板乾燥方法及基板乾燥裝置有权
简体标题：基板干燥方法及基板干燥设备
公开(公告)号：TWI692604B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW107123096
申请日：2018-07-04
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： F26B21/00 , F26B3/04 , H01L21/304

7. 发明专利

TWI677022B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI677022B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW107115371
申请日：2018-05-07
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/02 , F26B5/04

8. 发明专利

TW201811995A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201811995A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106114759
申请日：2017-05-04
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 灘原壮一 , NADAHARA, SOICHI , 上田大 , UEDA, DAI , 北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI , 奧村勝弥 , OKUMURA, KATSUYA
IPC分类号： C11D7/30 , C11D7/26 , C11D11/00 , B08B3/08 , H01L21/67 , H01L21/02
摘要：本發明係一種基板處理裝置，其特徵在於：具備對基板W之圖案形成面供給含有熔解狀態之昇華性物質之處理液的供給機構、使上述處理液於上述形成面上凝固而形成凝固體的凝固機構、使上述凝固體昇華而自上述形成面去除的昇華機構，並且上述昇華性物質含有氟碳化合物。
简体摘要：本发明系一种基板处理设备，其特征在于：具备对基板W之图案形成面供给含有熔解状态之升华性物质之处理液的供给机构、使上述处理液于上述形成面上凝固而形成凝固体的凝固机构、使上述凝固体升华而自上述形成面去除的升华机构，并且上述升华性物质含有氟碳化合物。

9. 发明专利

TW202027154A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202027154A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108126466
申请日：2019-07-26
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/304
摘要：於基板處理裝置內搬運固化膜形成物質之固體100，並供給至基板W之正面。藉由固化膜形成物質之熔解或溶解，於基板W之正面製作包含基板W之正面上之固化膜形成物質之乾燥前處理液。藉由以凝固或析出使基板W之正面上之乾燥前處理液固化，而於基板W之正面形成包含固化膜形成物質之固化膜。藉由使固化膜變化為氣體而將固化膜自基板W之正面去除。
简体摘要：于基板处理设备内搬运固化膜形成物质之固体100，并供给至基板W之正面。借由固化膜形成物质之熔解或溶解，于基板W之正面制作包含基板W之正面上之固化膜形成物质之干燥前处理液。借由以凝固或析出使基板W之正面上之干燥前处理液固化，而于基板W之正面形成包含固化膜形成物质之固化膜。借由使固化膜变化为气体而将固化膜自基板W之正面去除。

10. 发明专利

TWI679679B 基板處理方法、基板處理液及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法、基板处理液及基板处理设备
公开(公告)号：TWI679679B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107125657
申请日：2018-07-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/64 , F26B5/04 , B08B3/08 , B08B13/00

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