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一种硅片加工用均胶机

阅读：650发布：2021-02-26

IPRDB可以提供一种硅片加工用均胶机专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及半导体加工技术领域，且公开了一种硅片加工用均胶机，包括机体、腔室、机架、胶枪，所述腔室安装在机体的顶部，所述机架安装在机体上，所述胶枪安装在机架的底部，所述胶枪内开设有注射腔，所述注射腔的两侧设置有速溶腔，所述速溶腔内填充有融化液体，所述注射腔的内腔滑动连接有活塞。活塞、螺杆与齿轮之间的配合，利用胶枪的流量差，控制融化液体的流出，从而融化胶枪内部的洁净，当胶枪的底部出现微量洁净时，胶枪的注入速度不变，受到洁净的原因，光刻胶的流出速度变缓，液体逐渐蓄积，使得活塞能根据液体的容量，自动做出相应的位移，从而控制活塞向上移动，在移动过程中，使得齿轮做圆周运动，从而控制密封垫逐渐打开通孔。，下面是一种硅片加工用均胶机专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种硅片加工用均胶机，包括机体(1)、腔室(2)、机架(3)、胶枪(4)，所述腔室(2)安装在机体(1)的顶部，所述机架(3)安装在机体(1)上，所述胶枪(4)安装在机架(3)的底部，其特征在于：所述胶枪(4)内开设有注射腔(5)，所述注射腔(5)的两侧设置有速溶腔(6)，所述速溶腔(6)内填充有融化液体(7)，所述注射腔(5)的内腔滑动连接有活塞(9)，所述活塞(9)上固定连接有螺杆(10)，所述螺杆(10)的两侧啮合有齿轮(12)，所述齿轮(12)的顶端与胶枪(4)的腔壁转动连接，所述滑动杆(13)上安装有密封垫(14)，所述胶枪(4)上开设有位于密封垫(14)侧面的通孔(15)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片加工用均胶机，其特征在于：所述胶枪(4)的外壁连通有进液管(16)，所述胶枪(4)的内壁安装有位于进液管(16)下方的漏液管(17)，所述漏液管(17)的底部连通有导流管(18)，所述导流管(18)的端部与速溶腔(6)的顶部相连通。

3.根据权利要求1所述的一种硅片加工用均胶机，其特征在于：所述螺杆(10)的顶部固定连接有支撑板(19)，所述螺杆(10)上安装有位于支撑板(19)下方的滑动块(11)，所述滑动块(11)的外壁与注射腔(5)的内壁滑动连接，所述支撑板(19)的两侧固定连接有密封块(20)，所述密封块(20)的宽度与长度大于进液管(16)开口处的长度与宽度，所述密封块(20)的顶部固定连接有弹簧(21)，所述弹簧(21)的顶端固定连接有支撑块(22)，所述滑动杆(13)的端部贯穿并延伸至支撑块(22)的外部，所述支撑块(22)与滑动杆(13)的相接处转动连接，所述支撑块(22)的底部固定连接有缓冲垫(23)，所述缓冲垫(23)的材质为弹性橡胶。

4.根据权利要求1所述的一种硅片加工用均胶机，其特征在于：所述密封垫(14)的形状为矩形，所述密封垫(14)初始状态完全覆盖通孔(15)，所述密封垫(14)的材质为弹性橡胶。

5.根据权利要求1所述的一种硅片加工用均胶机，其特征在于：所述速溶腔(6)侧壁的外部安装有保温层(8)，所述融化液体(7)为丙酮液体，所述融化液体(7)的温度为30-40摄氏度。

说明书全文

一种硅片加工用均胶机

技术领域

[0001] 本发明涉及半导体加工技术领域，具体为一种硅片加工用均胶机。

背景技术

[0002] 半导体硅片在光刻前，需要用到均胶机，将胶层均匀涂覆在硅片上，保证硅片上胶层的厚度一致。

[0003] 现有均胶机的工作原理为，将硅片放置在工作台上，然后将光刻胶通过喷枪滴落在硅片上，合上顶盖，再启动真空泵将腔室内部的空气抽出，然后再启动均胶机带动硅片旋转，利用离心力将胶层均匀甩在硅片上，光刻胶成分包括树脂、感光剂和溶剂三部分，其中的溶剂的作用为溶解固态的树脂及感光剂，使光刻胶处于液态，以便于通过旋涂的方式涂布在晶圆表面，而溶剂在实际使用中易挥发，当喷枪中剩余的光刻胶与空气接触后，光刻胶内部的溶剂会迅速挥发，从而使光刻胶出现结晶化，导致胶枪的实际流量减小，光刻胶的输出速度变慢，加剧光刻胶滴落至硅片上时间，严重时导致胶枪的枪口被堵塞，光刻胶无法流出，结晶化程度越来越严重，影响均胶机的后续使用，同时结晶后的光刻胶会影响匀胶工艺，产生各种匀胶缺陷，结晶后的光刻胶会破坏表面张力，造成光刻胶滴落，严重的可以造成胶管中所有光刻胶滴落，导致硅片表面的光刻胶出现厚度不均，表面不光滑的现象。

发明内容

[0004] 针对上述背景技术的不足，本发明提供了一种硅片加工用均胶机，具备去除结晶化、管道畅通的优点，解决了背景技术提出的问题。

[0005] 本发明提供如下技术方案：一种硅片加工用均胶机，包括机体、腔室、机架、胶枪，所述腔室安装在机体的顶部，所述机架安装在机体上，所述胶枪安装在机架的底部，所述胶枪内开设有注射腔，所述注射腔的两侧设置有速溶腔，所述速溶腔内填充有融化液体，所述注射腔的内腔滑动连接有活塞，所述活塞上固定连接有螺杆，所述螺杆的两侧啮合有齿轮，所述齿轮的顶端与胶枪的腔壁转动连接，所述滑动杆上安装有密封垫，所述胶枪上开设有位于密封垫侧面的通孔。

[0006] 优选的，所述胶枪的外壁连通有进液管，所述胶枪的内壁安装有位于进液管下方的漏液管，所述漏液管的底部连通有导流管，所述导流管的端部与速溶腔的顶部相连通。

[0007] 优选的，所述螺杆的顶部固定连接有支撑板，所述螺杆上安装有位于支撑板下方的滑动块，所述滑动块的外壁与注射腔的内壁滑动连接，所述支撑板的两侧固定连接有密封块，所述密封块的宽度与长度大于进液管开口处的长度与宽度，所述密封块的顶部固定连接有弹簧，所述弹簧的顶端固定连接有支撑块，所述滑动杆的端部贯穿并延伸至支撑块的外部，所述支撑块与滑动杆的相接处转动连接，所述支撑块的底部固定连接有缓冲垫，所述缓冲垫的材质为弹性橡胶。

[0008] 优选的，所述密封垫的形状为矩形，所述密封垫初始状态完全覆盖通孔，所述密封垫的材质为弹性橡胶。

[0009] 优选的，所述速溶腔侧壁的外部安装有保温层，所述融化液体为丙酮液体，所述融化液体的温度为30-40摄氏度。

[0010] 本发明具备以下有益效果：

[0011] 1、该硅片加工用均胶机，通过活塞、螺杆与齿轮之间的配合，利用胶枪的流量差，控制融化液体的流出，从而融化胶枪内部的洁净，当胶枪的底部出现微量洁净时，胶枪的注入速度不变，受到洁净的原因，光刻胶的流出速度变缓，液体逐渐蓄积，使得活塞能根据液体的容量，自动做出相应的位移，从而控制活塞向上移动，在移动过程中，使得齿轮做圆周运动，从而控制密封垫逐渐打开通孔，使得融化液体流入胶枪的内部融化结晶，当结晶减小时流量逐渐恢复，活塞受到流量差的因素，回到初始位置，使得胶枪在使用过程中，利用丙酮与光刻胶的反应，将结晶化的光刻胶溶解，自动杜绝结晶化的出现，使得胶枪在使用中始终保持一定的流畅性。

[0012] 2、该硅片加工用均胶机，通过密封块与进液管之间的配合，使得融化液体的注入容量根据胶枪的结晶化程度而改变，当胶枪结晶化比较严重时，活塞始终位于移动后的位置，使得支撑板带动密封块逐渐打开进液管，再加上丙酮缓解的速度变缓，融化液体不断注入，使得结晶光刻胶不断被溶解，使得液体根据结晶化的程度而注入，控制液体的注入容量，减小溶剂与空气的接触，从而减小溶剂的挥发，同时通过弹簧的作用，使得恢复后的胶枪被弹簧弹动初始位置，可以重复减缓胶枪出现结晶化的程度。

附图说明

[0013] 图1为本发明结构示意图；

[0014] 图2为胶枪的放大结构示意图；

[0015] 图3为胶枪的左侧结构示意图；

[0016] 图4为胶枪的右侧结构示意图。

[0017] 图中：1、机体；2、腔室；3、机架；4、胶枪；5、注射腔；6、速溶腔；7、融化液体；8、保温层；9、活塞；10、螺杆；11、滑动块；12、齿轮；13、滑动杆；14、密封垫；15、通孔；16、进液管；17、漏液管；18、导流管；19、支撑板；20、密封块；21、弹簧；22、支撑块；23、缓冲垫。

具体实施方式

[0018] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0019] 请参阅图1-4，一种硅片加工用均胶机，包括机体1、腔室2、机架3、胶枪4，所述腔室2安装在机体1的顶部，所述机架3安装在机体1上，所述胶枪4安装在机架3的底部，所述胶枪
4内开设有注射腔5，注射腔5主要用来光刻胶的储存，所述注射腔5的两侧设置有速溶腔6，所述胶枪4上连通有进胶管，便于光刻胶的注入，所述速溶腔6内填充有融化液体7，所述注射腔5的内腔滑动连接有活塞9，活塞9与注射腔5的内壁滑动连接，所述活塞9上固定连接有螺杆10，螺杆10上设有与齿轮12相适配的凸齿，便于齿轮12的转动，所述螺杆10的两侧啮合有齿轮12，螺杆10转动到最顶端时，刚好齿轮12带动滑动杆13转动180度，所述齿轮12的顶端与胶枪4的腔壁转动连接，所述滑动杆13上安装有密封垫14，所述胶枪4上开设有位于密封垫14侧面的通孔15，通孔15的作用便于融化液体7的流出。

[0020] 其中，所述胶枪4的外壁连通有进液管16，进液管16的另一端连接有水泵或水箱，便于融化液体7注入速溶腔6的内部，使得融化液体7蓄积在一起，逐渐通过通孔15流出，所述胶枪4的内壁安装有位于进液管16下方的漏液管17，所述漏液管17的底部连通有导流管18，所述导流管18的端部与速溶腔6的顶部相连通，便于融化液体7流入到速溶腔6的内部。

[0021] 其中，所述螺杆10的顶部固定连接有支撑板19，所述支撑板19与螺杆10的相接处滑动连接，使得支撑板19可以移动不同的位置，所述螺杆10上安装有位于支撑板19下方的滑动块11，滑动块11的作用，可以增加螺杆10在移动时的稳定性，所述滑动块11的外壁与注射腔5的内壁滑动连接，所述支撑板19的两侧固定连接有密封块20，所述密封块20的宽度与长度大于进液管16开口处的长度与宽度，便于堵塞进液管16，使得进液管16注入液体的容量，根据密封块20移动的位置决定，所述密封块20的顶部固定连接有弹簧21，所述弹簧21的顶端固定连接有支撑块22，支撑块22进一步增加两个滑动杆13的稳定性，防止滑动杆13在使用过程中出现滑动的现象，所述滑动杆13的端部贯穿并延伸至支撑块22的外部，所述支撑块22与滑动杆13的相接处转动连接，所述支撑块22的底部固定连接有缓冲垫23，所述缓冲垫23的材质为弹性橡胶，减缓支撑板19的移动速度，防止支撑板19撞击胶枪4的内壁。

[0022] 其中，所述密封垫14的形状为矩形，所述密封垫14初始状态完全覆盖通孔15，使得密封垫14控制通孔15的直径，从而控制液体的流出量和流出速度，所述密封垫14的材质为弹性橡胶，进一步增加密封垫14与通孔15之间的贴合力，从而增加通孔15的密封性。

[0023] 其中，所述速溶腔6侧壁的外部安装有保温层8，使得注入的液体保持一定的温度，所述融化液体7为丙酮液体，所述融化液体7的温度为30-40摄氏度，利用温度与液体的特性，加快洁净的融化。

[0024] 工作原理，均胶机在使用时，当胶枪4出现结晶后，光刻胶受到结晶的阻挡，流速开始变慢，然后不断的向上蓄积，将活塞9向上顶起，然后带动螺杆10向上移动，再移动过程中，齿轮12与螺杆10之间不断啮合，带动齿轮12做圆周运动，然后齿轮12带动滑动杆13与密封垫14打开通孔15，同时螺杆10在上升过程中会逐渐带动支撑板19与密封块20向上移动，打开对进液管16的堵塞，然后融化液体7流入漏液管17中，再通过导流管18不断注入速溶腔6内，再通过通孔15流至胶枪4的内部与结晶的光刻胶反应，待结晶化的光刻胶消除后，弹簧
21弹动密封块20与支撑板19回到初始位置，然后带动螺杆10向下移动，再移动过程中，逐渐带动齿轮12做反方向运转，再带动滑动杆13与密封垫14回到初始位置。

[0025] 需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

[0026] 尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

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